Bagaimana bahan maju menyelesaikan 3 cabaran kritikal dalam reka bentuk relau semikonduktor

Perlumbaan untuk mengecilkan saiz transistor dan kecekapan sel solar skala mendorong peralatan pemprosesan haba ke hadnya. Di Semicorex, kami telah menghabiskan dua dekad berkolaborasi dengan pengeluar semikonduktor dan PV yang terkemuka untuk menangani titik kesakitan yang berulang: Apabila bahan standard gagal di bawah keadaan yang melampau, keseluruhan kelompok pengeluaran dapat dikompromikan.

Salutan CVD: Perisai untuk komponen proses

Salutan pemendapan wap kimia (CVD) seperti silikon karbida (sic) dan tantalum carbide (TAC) merevolusi panjang umur komponen dalam persekitaran yang keras:

Salutan sicKelebihan:

Menahan suhu sehingga 1,650 ° C dalam atmosfera lengai

Mengurangkan pencemaran zarah dalam reaktor pertumbuhan epitaxial

Memperluaskan hayat perkhidmatan grafit dengan 3-5x

Salutan TACdalam halangan penyebaran:

Menghalang penyusupan silikon cair dalam crucibles (99.999% pengekalan kesucian)

Meminimumkan warpage wafer semasa pemprosesan haba pesat (RTP)

Apabila suhu melebihi 1600 ° C: kelebihan salutan CVD

Ini bukan sihir - ia adalah sains bahan. Proses CVD proprietari kami mendepositkan kedua-dua salutan SIC dan TAC dengan ketepatan peringkat atom, mewujudkan permukaan yang:

Menentang Silicon Vapor Corrosion 3x lebih lama daripada lapisan standard

Mengekalkan variasi ketebalan <0.5μm di seluruh geometri kompleks

Menghapuskan penghapusan salutan walaupun di bawah berbasikal termal

Krisis senyap dalam keseragaman haba

Dalam relau pertumbuhan kristal, pengagihan suhu yang tidak konsisten boleh mengubah silikon $ 250k menjadi sekerap. Melalui inovasi bahan seperti:

Grafit-grafit yang digredkan ketumpatan (0.18-0.25g/cm³ Reka Bentuk Kecerunan)

Penebat komposit karbon-karbon dengan <2% anisotropi pengembangan haba

... Kami telah membantu pelanggan mencapai:

✔️ ± 1.5 ° C Keseragaman suhu paksi dalam sistem czochralski 300mm

✔️ 40% kadar penyejukan lebih cepat tanpa keretakan ingot

Mengapa kesucian kuarza lebih penting dari sebelumnya

Apabila Foundry Tier-1 MEMS mengesan kecacatan zarah ke liner ruang etsa mereka, penyelesaian kuarza yang bebas gelembung kami:

Mengurangkan pencemaran logam sebanyak 89% (analisis ICP-MS)

Selang penyelenggaraan pencegahan yang dilanjutkan dari 3 hingga 8 bulan

Mencapai kesucian awal 99.999% dengan kandungan logam <0.1ppb alkali

Beyond Spesifikasi: Perkara Kejuruteraan Aplikasi

Walaupun spesifikasi teknikal menyediakan perbandingan asas, prestasi dunia nyata bergantung kepada:

• Gandingan proses bahan - Bagaimana komponen berinteraksi dengan kimia tertentu (mis., Cl₂ vs plasmas SF₆)

• Perpustakaan mod kegagalan - pangkalan data kami dari 1,200+ kes kegagalan komponen memberitahu pemilihan bahan

• Penggredan tersuai - Melaraskan keliangan/kekonduksian grafit di bahagian bahagian silang

Semicorex menawarkan berkualiti tinggiTantalum carbide bersalutdanSilicon Carbide Disalutbahagian yang disesuaikan. Sekiranya anda mempunyai pertanyaan atau memerlukan butiran tambahan, jangan ragu untuk berhubung dengan kami.

Hubungi Telefon # +86-13567891907

E -mel: sales@semicorex.com