Suseptor tong ialah komponen kritikal yang digunakan dalam pelbagai proses pembuatan semikonduktor, seperti LPE, MOCVD. Semicorex menggunakan karbida silikon ketulenan tinggi dalam lapisan nipis pada grafit menggunakan proses pemendapan wap kimia (CVD), yang menjadikan gred semikonduktor mterial dengan kestabilan haba yang sangat baik, rintangan kimia dan rintangan haus, menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam keadaan tinggi. proses suhu.
● Grafit bersalut SiC ketulenan tinggi
● Rintangan haba dan rintangan kimia yang unggul
● Keseragaman haba yang tinggi
● Rintangan haus yang sangat baik
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor ialah komponen yang direka bentuk dengan teliti yang disesuaikan untuk proses pembuatan semikonduktor termaju, terutamanya epitaksi. Produk kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite ialah komponen khusus yang direka untuk digunakan dalam proses epitaksi, terutamanya dalam membawa wafer. Hubungi kami hari ini untuk mengetahui lebih lanjut tentang cara kami boleh membantu anda dengan keperluan pemprosesan wafer semikonduktor anda.
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor untuk LPE Epitaxial Growth ialah produk berprestasi tinggi yang direka untuk memberikan prestasi yang konsisten dan boleh dipercayai dalam tempoh yang panjang. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epitaxial berkualiti tinggi pada cip wafer. Kebolehsesuaian dan keberkesanan kos menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasaran.
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex Barrel Susceptor Epi System ialah produk berkualiti tinggi yang menawarkan lekatan salutan yang unggul, ketulenan tinggi dan rintangan pengoksidaan suhu tinggi. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial pada cip wafer. Keberkesanan kos dan kebolehsesuaiannya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasaran.
Baca LagiHantar PertanyaanSistem Reaktor Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) ialah produk inovatif yang menawarkan prestasi terma yang sangat baik, malah profil terma, dan lekatan salutan yang unggul. Ketulenannya yang tinggi, rintangan pengoksidaan suhu tinggi, dan rintangan kakisan menjadikannya pilihan yang ideal untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Pilihan yang boleh disesuaikan dan keberkesanan kos menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasaran.
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ialah produk yang sangat tahan lama dan boleh dipercayai untuk mengembangkan lapisan epixial pada cip wafer. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi dan ketulenan tinggi menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial berkualiti tinggi.
Baca LagiHantar Pertanyaan