China Grafit khusus Pengilang, Pembekal, Kilang

Grafit Specialty adalah sejenis grafit buatan yang diproses. Ia adalah bahan penting yang sangat diperlukan dalam semua aspek proses pembuatan semikonduktor dan fotovoltaik, termasuk pertumbuhan kristal, implantasi ion, epitaxy, dll.

1. Silicon Carbide (sic) Pertumbuhan Kristal

Silicon Carbide, sebagai bahan semikonduktor generasi ketiga, digunakan secara meluas dalam kenderaan tenaga baru, komunikasi 5G, dan bidang lain. Dalam proses pertumbuhan kristal SIC 6-inci dan 8 inci, grafit isostatik digunakan terutamanya untuk menghasilkan komponen utama berikut:

Graphite Crucible: Ini boleh digunakan untuk mensintesis bahan bakar serbuk SIC dan juga membantu pertumbuhan kristal pada suhu tinggi. Kesucian yang tinggi, rintangan suhu tinggi, dan rintangan kejutan terma memastikan persekitaran pertumbuhan kristal yang stabil.

Pemanas Grafit: Ini menyediakan pengagihan haba seragam, memastikan pertumbuhan kristal SIC berkualiti tinggi.

Tiub penebat: Ini mengekalkan keseragaman suhu dalam relau pertumbuhan kristal dan mengurangkan kehilangan haba.

2. Implantasi ion

Implantasi ion adalah proses utama dalam pembuatan semikonduktor. Grafit isostatik digunakan terutamanya untuk mengeluarkan komponen berikut dalam implan ion:

Getter Graphite: Ini menyerap ion kekotoran dalam rasuk ion, memastikan kesucian ion.

Cincin fokus grafit: Ini memberi tumpuan kepada rasuk ion, meningkatkan ketepatan dan kecekapan implan ion. Dulang substrat grafit: Digunakan untuk menyokong wafer silikon dan mengekalkan kestabilan dan konsistensi semasa implantasi ion.

3. Proses Epitaxy

Proses epitaxy adalah langkah kritikal dalam pembuatan peranti semikonduktor. Grafit yang ditekan secara isostatik digunakan terutamanya untuk mengeluarkan komponen berikut dalam relau epitaxy:

Dulang Grafit dan Susceptors: Digunakan untuk menyokong wafer silikon, memberikan sokongan yang stabil dan konduksi haba seragam semasa proses epitaxy.

4. Aplikasi pembuatan semikonduktor lain

Grafit yang ditekan secara isostatik juga digunakan secara meluas dalam aplikasi pembuatan semikonduktor berikut:

Proses Etching: Digunakan untuk mengeluarkan elektrod grafit dan komponen pelindung untuk etchers. Rintangan kakisan dan kesucian yang tinggi memastikan kestabilan dan ketepatan dalam proses etsa.

Pemendapan wap kimia (CVD): Digunakan untuk mengeluarkan dulang grafit dan pemanas dalam relau CVD. Kekonduksian terma yang tinggi dan rintangan suhu tinggi memastikan pemendapan filem tipis seragam.

Ujian Pembungkusan: Digunakan untuk mengeluarkan lekapan ujian dan dulang pembawa. Ketepatan yang tinggi dan pencemaran yang rendah memastikan keputusan ujian yang tepat.

Kelebihan bahagian grafit

Kesucian tinggi:

Menggunakan bahan grafit yang ditekan secara isostatik tinggi dengan kandungan kekotoran yang sangat rendah, ia memenuhi keperluan kesucian bahan yang ketat pembuatan semikonduktor. Relau pemurnian syarikat sendiri boleh membersihkan grafit ke bawah 5ppm.

Ketepatan Tinggi:

Dengan peralatan pemprosesan lanjutan dan teknologi pemprosesan matang, ia memastikan ketepatan dimensi produk dan bentuk dan toleransi kedudukan mencapai tahap mikron.

Prestasi tinggi:

Produk ini mempunyai rintangan suhu tinggi yang sangat baik, rintangan kakisan, rintangan radiasi, kekonduksian terma yang tinggi dan sifat -sifat lain, memenuhi pelbagai keadaan kerja keras pembuatan semikonduktor.

Perkhidmatan yang disesuaikan:

Reka bentuk produk dan perkhidmatan pemprosesan yang disesuaikan boleh disediakan mengikut keperluan pelanggan untuk memenuhi keperluan senario aplikasi yang berbeza.

Jenis produk grafit

(1) grafit isostatik
Produk grafit isostatik dihasilkan oleh tekanan isostatik sejuk. Berbanding dengan kaedah pembentukan lain, crucibles yang dihasilkan oleh proses ini mempunyai kestabilan yang sangat baik. Produk grafit yang diperlukan untuk kristal tunggal SIC adalah saiz yang besar, yang akan membawa kepada kesucian yang tidak sekata di permukaan dan di dalam produk grafit, yang tidak dapat memenuhi keperluan penggunaan. Untuk memenuhi keperluan pemurnian yang mendalam bagi produk grafit bersaiz besar yang diperlukan untuk kristal tunggal SIC, proses penyucian nadi termokimia tinggi yang unik harus digunakan untuk mencapai pemurnian yang mendalam dan seragam produk grafit bersaiz besar atau berbentuk khas, supaya kesucian permukaan produk dan teras dapat memenuhi keperluan penggunaan.

(2) grafit berliang
Grafit berpori adalah sejenis grafit dengan keliangan tinggi dan ketumpatan rendah. Dalam proses pertumbuhan kristal SIC, grafit berliang memainkan peranan penting dalam meningkatkan keseragaman pemindahan massa, mengurangkan kadar kejadian perubahan fasa dan meningkatkan bentuk kristal.
Penggunaan grafit berliang meningkatkan keseragaman suhu dan suhu kawasan bahan mentah, meningkatkan perbezaan suhu paksi dalam crucible, dan juga mempunyai kesan tertentu untuk melemahkan penghabluran semula permukaan bahan mentah; Dalam ruang pertumbuhan, grafit berliang meningkatkan kestabilan aliran bahan sepanjang proses pertumbuhan, meningkatkan nisbah C/SI kawasan pertumbuhan, membantu mengurangkan kebarangkalian perubahan fasa, dan pada masa yang sama, grafit berliang juga memainkan peranan dalam meningkatkan antara muka kristal.

(3) dirasakan
Rasa lembut dan keras merasakan kedua -dua memainkan peranan bahan -bahan penebat terma penting dalam pertumbuhan kristal SIC dan pautan epitaxial.

(4) Kerajang grafit
Kertas grafit adalah bahan berfungsi yang diperbuat daripada grafit serpihan karbon tinggi melalui rawatan kimia dan rolling suhu tinggi. Ia mempunyai kekonduksian terma yang tinggi, kekonduksian elektrik, fleksibiliti, dan rintangan kakisan.

(5) Bahan komposit
Medan terma karbon-karbon adalah salah satu daripada bahan-bahan teras dalam pengeluaran relau kristal tunggal fotovoltaik.

Pengeluaran Semicorex

Semicorex membuat grafit dengan kaedah pengeluaran kecil, yang disesuaikan. Pengeluaran batch kecil menjadikan produk lebih terkawal. Seluruh proses dikawal oleh pengawal logik yang boleh diprogramkan (PLCS), data proses terperinci telah direkodkan, membolehkan kebolehkesanan kitaran hayat lengkap.

Semasa keseluruhan proses pemanggang, konsistensi yang dicapai dalam ketahanan di lokasi yang berbeza, dan kawalan suhu yang ketat dikekalkan. Ini memastikan homogeniti dan kebolehpercayaan bahan grafit.

Semicorex menggunakan teknologi menekan isostatik sepenuhnya, yang berbeza daripada pembekal lain; Ini bermakna grafit adalah seragam ultra itu sendiri dan terbukti sangat penting dalam proses epitaxial. Ujian keseragaman bahan yang komprehensif telah dijalankan, termasuk ketumpatan, ketahanan, kekerasan, kekuatan lentur, dan kekuatan di seluruh sampel yang berbeza.