China Grafit berliang Pengilang, Pembekal, Kilang

Kebanyakan pengeluar substrat SiC pada masa kini menggunakan reka bentuk pijar yang melibatkan silinder grafit berliang untuk proses medan panas. Proses ini melibatkan meletakkan zarah SiC ketulenan tinggi di antara dinding pijar grafit dan silinder grafit berliang sambil mendalamkan pijar dan meningkatkan diameternya. Ini meningkatkan kawasan penyejatan bahan mentah di samping meningkatkan isipadu cas.

Proses baru menyelesaikan masalah kecacatan kristal yang timbul akibat penghabluran semula bahagian atas bahan mentah apabila permukaan bahan sumber tumbuh, yang menjejaskan fluks bahan tersublimasi. Selain itu, proses baharu itu mengurangkan sensitiviti taburan suhu kawasan bahan mentah kepada pertumbuhan kristal, menstabilkan kecekapan pemindahan jisim, mengurangkan pengaruh kemasukan karbon semasa peringkat akhir pertumbuhan, dan seterusnya meningkatkan kualiti kristal SiC. Di samping itu, proses baharu ini menggunakan kaedah penetapan dulang kristal tanpa biji yang tidak melekat pada kristal benih, dengan itu membebaskan pengembangan haba dan memudahkan pelepasan tekanan. Proses baharu ini mengoptimumkan medan terma dan meningkatkan kecekapan pengembangan.

Adalah penting untuk diperhatikan bahawa kualiti dan hasil kristal tunggal SiC yang diperolehi oleh proses baru ini sangat bergantung pada sifat fizikal grafit pijar dan grafit berliang. Walau bagaimanapun, bekalan dalam pasaran pada masa ini sangat singkat berbanding dengan permintaan yang semakin meningkat.

Ciri-ciri Utama Grafit Berliang:

Pengagihan saiz liang yang sesuai;

Keliangan yang cukup tinggi;

Mekanikal untuk memenuhi keperluan pemprosesan dan penggunaan.

Semicorex menawarkan produk grafit berliang berkualiti tinggi yang disesuaikan mengikut keperluan anda.