Grafit Bersalut Silikon Karbida Tong Susceptor

Semicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite ialah komponen khusus yang direka untuk digunakan dalam proses epitaksi, terutamanya dalam membawa wafer. Grafit Bersalut Silikon Karbida Barrel Susceptor ini dibuat daripada bahan grafit, yang terkenal dengan kekonduksian terma yang sangat baik dan kestabilan pada suhu tinggi. Untuk meningkatkan prestasi dan ketahanannya, permukaan grafit disalut dengan lapisan silikon karbida (SiC).

Salutan silikon karbida bagi Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite mempunyai beberapa tujuan penting dalam konteks ini. Pertama, ia menyediakan lapisan perlindungan tambahan kepada substrat grafit yang mendasari, melindunginya daripada tindak balas kimia dan haus yang mungkin berlaku semasa proses epitaksi. Kedua, salutan SiC meningkatkan sifat terma Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite, membolehkan pemanasan wafer yang cekap dan seragam. Pemanasan seragam ini penting untuk mencapai lapisan epitaxial yang konsisten dan berkualiti tinggi pada wafer semikonduktor.

Reka bentuk Grafit Bersalut Silikon Karbida Barrel Susceptor dioptimumkan untuk memegang dan mengangkut berbilang wafer dengan selamat sepanjang proses epitaksi. Struktur seperti tongnya membolehkan pemuatan dan pemunggahan wafer dengan mudah sambil memastikan pengagihan haba yang betul dan kestabilan haba semasa operasi.

Secara keseluruhannya, Grafit Bersalut Silikon Karbida Barrel Susceptor mewakili komponen kritikal dalam peralatan epitaksi, menawarkan kebolehpercayaan, ketahanan dan kawalan terma tepat yang penting untuk penghasilan peranti semikonduktor termaju.