Apakah sistem MOCVD?

MOCVD, dikenali sebagai Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), ialah teknik untuk mengembangkan filem semikonduktor nipis pada substrat. Dengan MOCVD, banyak lapisan nano boleh didepositkan dengan ketepatan yang tinggi, setiap satu dengan ketebalan terkawal, untuk membentuk bahan dengan sifat optik dan elektrik tertentu.

Sistem MOCVD ialah sejenis sistem pemendapan wap kimia (CVD) yang menggunakan prekursor organik logam untuk mendepositkan filem nipis bahan pada substrat. Sistem ini terdiri daripada kapal reaktor, sistem penghantaran gas, pemegang substrat, dan sistem kawalan suhu. Prekursor organik logam dimasukkan ke dalam bekas reaktor bersama-sama dengan gas pembawa, dan suhu dikawal dengan teliti untuk memastikan pertumbuhan filem nipis berkualiti tinggi.

Penggunaan MOCVD mempunyai beberapa kelebihan berbanding teknik pemendapan lain. Satu kelebihan ialah ia membolehkan pemendapan bahan kompleks dengan kawalan tepat ke atas ketebalan dan komposisi filem nipis. Ini amat penting untuk pengeluaran peranti semikonduktor berprestasi tinggi, di mana sifat bahan filem nipis boleh memberi kesan yang ketara ke atas prestasi peranti.

Satu lagi kelebihan MOCVD ialah ia boleh digunakan untuk mendepositkan filem nipis pada pelbagai substrat, termasuk silikon, nilam dan galium arsenida. Fleksibiliti ini menjadikannya proses penting dalam pembuatan pelbagai peranti semikonduktor, daripada cip komputer hingga LED.

Sistem MOCVD digunakan secara meluas dalam industri semikonduktor, dan mereka telah memainkan peranan penting dalam pembangunan banyak teknologi canggih. Sebagai contoh, MOCVD telah digunakan untuk menghasilkan LED berkecekapan tinggi untuk aplikasi pencahayaan dan paparan, serta sel solar berprestasi tinggi untuk aplikasi fotovoltaik.