Mengapa memilih suseptor grafit bersalut SiC?

Suseptor grafitadalah salah satu bahagian penting dalam peralatan MOCVD, adalah pembawa dan pemanas substrat wafer. Sifat kestabilan terma dan keseragaman terma memainkan peranan penting dalam kualiti pertumbuhan epitaksi wafer, yang secara langsung menentukan keseragaman dan ketulenan bahan lapisan, akibatnya kualitinya secara langsung mempengaruhi penyediaan epitaksi. Sementara itu, dengan peningkatan dalam bilangan penggunaan dan perubahan dalam keadaan kerja, ia sangat mudah hilang, dan tergolong dalam bahan habis pakai. Kekonduksian terma yang sangat baik dan kestabilan grafit menjadikannya kelebihan yang baik sebagaikomponen asas untuk peralatan MOCVD. Walau bagaimanapun, jika hanya grafit tulen digunakan, ia akan menghadapi beberapa masalah. Akan ada gas yang menghakis dan sisa organik logam dalam proses pengeluaran, dan asas grafit akan menghakis dan menjatuhkan serbuk, yang sangat mengurangkan hayat perkhidmatansuseptor grafit, dan serbuk grafit yang jatuh juga akan menyebabkan pencemaran kepada cip, jadi dalam proses penyediaan asas juga Masalah-masalah ini perlu diselesaikan semasa penyediaan asas. Teknologi salutan boleh menyediakan penetapan serbuk permukaan, meningkatkan kekonduksian terma, dan menyamakan pengedaran terma, yang menjadi teknologi utama untuk menyelesaikan masalah ini. Teknologi utama adalah untuk menyelesaikan masalah ini. Mengikut persekitaran aplikasi dan keperluan bagisuseptor grafit, salutan permukaan harus mempunyai ciri-ciri berikut.

Ketumpatan tinggi dan pembalut penuh: asas grafit secara keseluruhan berada dalam suhu tinggi, persekitaran kerja yang menghakis, permukaan mesti dibalut sepenuhnya, manakala salutan mesti mempunyai ketumpatan yang baik untuk memainkan peranan perlindungan yang baik.

Kerataan permukaan yang baik: Memandangkan tapak grafit yang digunakan untuk pertumbuhan kristal tunggal memerlukan kerataan permukaan yang sangat tinggi, kerataan asal tapak mesti dikekalkan selepas salutan disediakan, iaitu permukaan salutan mestilah seragam.

Kekuatan ikatan yang baik: Mengurangkan perbezaan pekali pengembangan haba antara asas grafit dan bahan salutan dengan berkesan boleh meningkatkan kekuatan ikatan antara mereka, dan salutan tidak mudah retak selepas kitaran haba suhu tinggi dan rendah.

Kekonduksian haba yang tinggi: Pertumbuhan cip berkualiti tinggi memerlukan haba yang cepat dan seragam dari asas grafit, jadi bahan salutan harus mempunyai kekonduksian terma yang tinggi.

Takat lebur tinggi, pengoksidaan suhu tinggi dan rintangan kakisan: Salutan harus dapat berfungsi dengan stabil dalam suhu tinggi dan persekitaran kerja yang menghakis.