Apa itu Penyepuhlindapan Terma

Proses penyepuhlindapan, juga dikenali sebagai Penyepuhlindapan Terma, merupakan langkah penting dalam pembuatan semikonduktor. Ia meningkatkan sifat elektrik dan mekanikal bahan dengan menundukkan wafer silikon pada suhu tinggi. Matlamat utama penyepuhlindapan adalah untuk membaiki kerosakan kekisi, mengaktifkan dopan, mengubah suai sifat filem, dan mencipta silisid logam. Beberapa peralatan biasa yang digunakan dalam proses penyepuhlindapan termasuk bahagian bersalut SiC yang disesuaikan sepertipengusaha, meliputi, dll disediakan oleh Semicorex.

Prinsip Asas Proses Penyepuhlindapan

Prinsip asas proses penyepuhlindapan adalah menggunakan tenaga haba pada suhu tinggi untuk menyusun semula atom dalam bahan, dengan itu mencapai perubahan fizikal dan kimia tertentu. Ia terutamanya melibatkan aspek berikut:

1. Pembaikan kerosakan kekisi:

  - Implantasi ion: Ion bertenaga tinggi mengebom wafer silikon semasa implantasi ion, menyebabkan kerosakan pada struktur kekisi dan mewujudkan kawasan amorf.

  - Pembaikan penyepuhlindapan: Pada suhu tinggi, atom dalam kawasan amorfus disusun semula untuk memulihkan susunan kekisi. Proses ini biasanya memerlukan julat suhu kira-kira 500°C.

2. Pengaktifan kekotoran:

  - Penghijrahan dopan: Atom kekotoran yang disuntik semasa proses penyepuhlindapan berhijrah dari tapak interstisial ke tapak kekisi, dengan berkesan menghasilkan doping.

  - Suhu pengaktifan: Pengaktifan kekotoran biasanya memerlukan suhu yang lebih tinggi, sekitar 950°C. Suhu yang lebih tinggi membawa kepada kadar pengaktifan kekotoran yang lebih tinggi, tetapi suhu yang terlalu tinggi boleh menyebabkan penyebaran kekotoran yang berlebihan, menjejaskan prestasi peranti.

3. Pengubahsuaian filem:

  - Ketumpatan: Penyepuhlindapan boleh memekatkan filem yang longgar dan mengubah sifatnya semasa goresan kering atau basah.

  - Dielektrik get high-k: Post Deposition Annealing (PDA) selepas pertumbuhan dielectric gate high-k boleh meningkatkan sifat dielektrik, mengurangkan arus kebocoran pintu, dan meningkatkan pemalar dielektrik.

4. Pembentukan silisid logam:

  - Fasa aloi: Filem logam (cth., kobalt, nikel, dan titanium) bertindak balas dengan silikon untuk membentuk aloi. Keadaan suhu penyepuhlindapan yang berbeza membawa kepada pembentukan pelbagai fasa aloi.

  - Pengoptimuman prestasi: Dengan mengawal suhu dan masa penyepuhlindapan, fasa aloi dengan rintangan sentuhan rendah dan rintangan badan boleh dicapai.

Pelbagai jenis proses penyepuhlindapan

1. Penyepuhlindapan Relau Suhu Tinggi:

Ciri-ciri: Kaedah penyepuhlindapan tradisional dengan suhu tinggi (biasanya melebihi 1000°C) dan masa penyepuhlindapan yang panjang (beberapa jam).

Aplikasi: Sesuai untuk aplikasi yang memerlukan belanjawan haba yang tinggi, seperti penyediaan substrat SOI dan resapan n-telaga dalam.

2. Penyepuhlindapan Terma Pantas (RTA):

Ciri-ciri: Dengan mengambil kesempatan daripada ciri-ciri pemanasan dan penyejukan pantas, penyepuhlindapan boleh disiapkan dalam masa yang singkat, biasanya pada suhu sekitar 1000°C dan masa beberapa saat.

Aplikasi: Sangat sesuai untuk pembentukan simpang ultra cetek, ia boleh mengurangkan penyebaran kekotoran yang berlebihan secara berkesan dan merupakan bahagian yang amat diperlukan dalam pembuatan nod termaju.

3. Penyepuhlindapan Lampu Denyar (FLA):

Ciri-ciri: Gunakan lampu kilat berintensiti tinggi untuk memanaskan permukaan wafer silikon dalam masa yang sangat singkat (milisaat) untuk mencapai penyepuhlindapan pantas.

Aplikasi: Sesuai untuk pengaktifan doping ultra cetek dengan lebar garisan di bawah 20nm, yang boleh meminimumkan penyebaran kekotoran sambil mengekalkan kadar pengaktifan kekotoran yang tinggi.

4. Laser Spike Annealing (LSA):

Ciri-ciri: Gunakan sumber cahaya laser untuk memanaskan permukaan wafer silikon dalam masa yang sangat singkat (mikrosaat) untuk mencapai penyepuhlindapan setempat dan berketepatan tinggi.

Aplikasi: Sangat sesuai untuk nod proses lanjutan yang memerlukan kawalan ketepatan tinggi, seperti pembuatan peranti FinFET dan high-k/metal gate (HKMG).

Semicorex menawarkan kualiti tinggiBahagian salutan CVD SiC/TaCuntuk penyepuhlindapan haba. Jika anda mempunyai sebarang pertanyaan atau memerlukan butiran tambahan, sila jangan teragak-agak untuk menghubungi kami.

Hubungi # telefon +86-13567891907

E-mel: sales@semicorex.com