Alumina Chuck

Semicorex Alumina Chuck berdiri sebagai alat asas dalam pemprosesan semikonduktor, dibuat dengan teliti daripada seramik alumina. Bahan khusus ini terdapat dalam dua jenis berbeza: ketulenan tinggi dan jenis biasa, masing-masing mempunyai pelbagai aplikasi dan sifatnya sendiri.

Seramik alumina ketulenan tinggi, mempunyai kandungan Al2O3 sebanyak 99.9% atau lebih tinggi, melambangkan kecemerlangan dalam ketulenan dan daya tahan. Dibentuk pada suhu pensinteran antara 1650 hingga 1990°C, seramik ini mempunyai sifat penghantaran cahaya yang luar biasa dalam julat panjang gelombang 1 hingga 6 μm. Fleksibiliti mereka meluas merentasi pelbagai industri, daripada menggantikan mangkuk pijar platinum dalam aplikasi kaca cair kepada menentang daya menghakis alkali dan logam, seperti lampu natrium. Dalam bidang elektronik, mereka mencari tujuan sebagai substrat untuk litar bersepadu dan sebagai bahan penebat frekuensi tinggi.

Sebaliknya, seramik alumina biasa merangkumi spektrum komposisi, termasuk 99%, 95%, 90%, dan seterusnya, yang digariskan oleh kandungan Al2O3 masing-masing. Seramik ini memenuhi pelbagai keperluan, dengan 99 alumina dihidangkan dalam mangkuk pijar suhu tinggi, tiub relau refraktori dan komponen tahan haus seperti galas dan pengedap seramik. Sementara itu, varian alumina 95 cemerlang dalam rintangan kakisan dan ketahanan haus. Sesetengah rumusan, diperkaya dengan talkum, mempamerkan sifat elektrik yang dipertingkatkan dan kekuatan mekanikal, memudahkan penyepaduan mereka ke dalam peranti vakum elektrik dan aplikasi khusus lain di mana pengedap dengan logam seperti molibdenum, niobium dan tantalum adalah penting.

Alumina Chuck, yang merangkumi keteguhan dan serba boleh seramik alumina, muncul sebagai lekapan penting dalam pembuatan semikonduktor. Kejuruteraan ketepatan dan daya tahannya terhadap keadaan yang melampau menjadikan Alumina Chuck amat diperlukan untuk mendapatkan wafer semikonduktor yang halus semasa peringkat pemprosesan kritikal, memastikan integriti dan kualiti produk akhir.