Fused Quartz Pedestal, direka khusus untuk digunakan dalam Pemendapan Lapisan Atom (ALD), Pemendapan Wap Kimia Tekanan Rendah (LPCVD) dan proses resapan, memastikan pemendapan seragam filem nipis pada permukaan wafer.**
Dalam fabrikasi semikonduktor, Fused Quartz Pedestal berfungsi sebagai struktur sokongan untuk bot kuarza, yang memegang wafer. Dengan mengekalkan suhu malar, ia membantu mencapai pemendapan filem nipis yang seragam, faktor kritikal untuk prestasi dan kebolehpercayaan peranti semikonduktor. Alas memastikan pengagihan haba dan cahaya dalam ruang proses adalah sekata, dengan itu meningkatkan kualiti keseluruhan proses pemendapan.
Kelebihan Bahan Kuarza Fused
1. Rintangan Suhu Tinggi
Fused Quartz Pedestal mempunyai takat lembut kira-kira 1730°C, membolehkan ia menahan penggunaan berpanjangan pada suhu antara 1100°C hingga 1250°C. Selain itu, ia boleh menahan pendedahan jangka pendek kepada suhu setinggi 1450°C.
2. Rintangan Kakisan
Alas Kuarza Fused adalah lengai secara kimia kepada kebanyakan asid, kecuali asid hidrofluorik. Rintangan asidnya melebihi seramik sebanyak 30 kali dan keluli tahan karat sebanyak 150 kali. Pada suhu tinggi, tiada bahan lain dapat menandingi kestabilan kimia kuarza bercantum, menjadikannya pilihan ideal untuk persekitaran kimia yang keras.
3. Kestabilan Terma
Salah satu ciri menonjol Fused Quartz Pedestal ialah pekali pengembangan haba minimumnya. Sifat ini membolehkannya menahan perubahan suhu yang teruk tanpa retak. Sebagai contoh, ia boleh dipanaskan dengan cepat hingga 1100°C dan kemudian direndam dalam air pada suhu bilik tanpa mengalami kerosakan—ciri penting untuk proses pembuatan tekanan tinggi.
Proses Pengilangan
Proses pembuatan untuk Fused Quartz Pedestal dikawal dengan teliti untuk memastikan standard kualiti tertinggi. Kekaki dihasilkan melalui proses pembentukkan termo dan kimpalan yang dijalankan dalam persekitaran bilik bersih kelas 10,000 atau lebih tinggi. Pembersihan seterusnya dengan air ultratulen (18 MΩ)seterusnya memastikan ketulenan dan prestasi produk. Setiap Alas Kuarza Fused menjalani pemeriksaan, pembersihan dan pembungkusan yang rapi dalam bilik bersih kelas 1,000 atau lebih tinggi untuk memenuhi keperluan ketat fabrikasi semikonduktor.
Bahan Kuarza Legap Ketulenan Tinggi
Untuk menyekat haba dan cahaya dengan berkesan, Fused Quartz Pedestal menggunakan bahan kuarza legap ketulenan tinggi. Sifat unik bahan ini meningkatkan keupayaan alas untuk mengekalkan suhu yang stabil dan seragam dalam ruang proses, dengan itu memastikan kualiti pemendapan filem nipis yang konsisten pada wafer.
Pelbagai Aplikasi
Ciri-ciri luar biasa Fused Quartz Pedestal menjadikannya sesuai untuk pelbagai aplikasi dalam industri semikonduktor. Dalam proses ALD, ia menyokong kawalan tepat pertumbuhan filem nipis pada tahap atom, penting untuk pengeluaran peranti semikonduktor termaju. Semasa proses LPCVD, kestabilan terma alas dan keupayaan menyekat cahaya menyumbang kepada pemendapan filem yang seragam, meningkatkan prestasi dan hasil peranti.
Dalam proses resapan, rintangan suhu tinggi Fused Quartz Pedestal dan lengai kimia memastikan doping bahan semikonduktor yang boleh dipercayai dan konsisten. Proses ini penting untuk menentukan sifat elektrik peranti semikonduktor, dan penggunaan bahan berkualiti tinggi seperti kuarza bercantum adalah penting untuk mencapai hasil yang optimum.