Grafit crucibles

Semicorex grafit crucibles adalah komponen kritikal dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya semasa peringkat pertumbuhan kristal. Bekas prestasi tinggi ini direkayasa untuk menahan keadaan yang melampau yang diperlukan untuk menghasilkan kristal silikon silikon atau kompaun semikonduktor yang tinggi melalui kaedah seperti proses Czochralski (CZ) atau teknik zon terapung (FZ).

Fungsi utama crucibles grafit adalah untuk menahan dan menyokong suhu yang sangat tinggi, biasanya melebihi 2000 ° C, di mana bahan-bahan semikonduktor generasi ketiga seperti silikon karbida dan gallium nitride sering disintesis. Crucibles yang diperbuat daripada grafit kemelut tinggi mempamerkan rintangan yang sangat baik terhadap suhu tinggi yang mengekalkan keadaan fizikal dan kimia mereka pada tahap yang melampau tanpa sebarang bentuk penguraian atau metamorfosis. Pengaliran haba yang baik oleh grafit grafit bermakna bahawa mereka bukan sahaja akan melakukan haba secara seragam tetapi juga menubuhkan medan suhu yang stabil. Ini berlaku dalam proses pencairan dan penghabluran kerana pengagihan suhu seragam akan membolehkan bahan pertumbuhan di bawah keadaan yang lebih kurang atau kurang, dengan itu mengurangkan kecacatan kristal dan membolehkan kristal semikonduktor yang berkualiti.

Dalam proses pertumbuhan kristal silikon karbida atau gallium nitrida (seperti fasa wap epitaxy CVD atau pengangkutan wap fizikal PVT), crucibles grafit digunakan untuk memegang bahan mentah dan menyediakan persekitaran pertumbuhan terkawal. Ketidaksuburan kimia dari crucible memastikan bahawa ia tidak bertindak balas secara kimia dengan bahan semikonduktor pada suhu tinggi, dengan itu mengekalkan kesucian bahan yang tinggi. Pada masa yang sama, kekonduksian terma yang baik dari grafit grafit membantu membentuk kecerunan suhu seragam, memberikan keadaan yang ideal untuk pertumbuhan kristal dan mengurangkan kekotoran dan kecacatan struktur.

Kekurangan kimia crucibles grafit adalah ciri utama dalam pemurnian bahan semikonduktor. Bahan grafit kemelut yang tinggi boleh mengasingkan pencemaran luaran dan mencegah kekotoran memasuki bahan semikonduktor cair. Permukaan grafit crucible juga boleh disalut (seperti salutan karbida silikon) untuk meningkatkan rintangan pengoksidaan dan rintangan kakisannya, seterusnya memastikan kesucian yang tinggi dan kestabilan yang tinggi dalam proses pengeluaran.