Bot Wafer SiC Mendatar

Ciri yang menentukan bagi Bot Wafer SiC Horizontal Semicorex ialah seni bina berlubang yang direka dengan teliti, disesuaikan khusus untuk memegang wafer dengan selamat di tempatnya sepanjang pelbagai proses suhu tinggi. Kekangan wafer yang tepat ini mempunyai beberapa fungsi kritikal:

Penghapusan Pergerakan Wafer:Dengan menghalang gelongsor atau peralihan yang tidak diingini, Bot Wafer SiC Horizontal memastikan pendedahan yang konsisten kepada gas proses dan profil suhu, menyumbang kepada pemprosesan wafer yang sangat seragam dan meminimumkan risiko kecacatan.

Keseragaman Proses yang Diperbaiki:Kedudukan wafer yang konsisten secara langsung diterjemahkan kepada keseragaman unggul dalam parameter kritikal seperti ketebalan lapisan, kepekatan doping dan morfologi permukaan. Ketepatan ini amat penting dalam aplikasi seperti pemendapan wap kimia (CVD) dan resapan, yang walaupun sedikit variasi boleh memberi kesan ketara kepada prestasi peranti.

Kerosakan Wafer yang Dikurangkan:Pegangan selamat Bot Wafer SiC Horizontal meminimumkan potensi kerepek wafer, pecah atau calar semasa pengendalian dan pengangkutan, yang penting untuk mengekalkan hasil yang tinggi dan mengurangkan kos pembuatan.

Di luar reka bentuk ketepatan mereka, Bot Wafer SiC Horizontal menawarkan gabungan sifat bahan yang menarik yang menjadikannya sesuai untuk pembuatan semikonduktor dan fotovoltaik:

Rintangan Suhu Melampau: Bot Wafer SiC Mendatar mempamerkan kekuatan dan kestabilan suhu tinggi yang luar biasa, membolehkannya menahan keadaan terma melampau yang dihadapi semasa proses seperti pertumbuhan kristal, penyepuhlindapan dan pemprosesan terma pantas (RTP) tanpa ubah bentuk atau degradasi.

Ketulenan Ultra Tinggi untuk Kawalan Pencemaran:Penggunaan SiC ketulenan tinggi memastikan penjanaan gas keluar atau zarah yang minimum, melindungi integriti permukaan wafer sensitif dan mencegah pencemaran yang boleh menjejaskan prestasi peranti.

Kestabilan Kimia Luar Biasa:Sifat lengai SiC menjadikan Bot Wafer SiC Horizontal sangat tahan terhadap serangan daripada gas menghakis dan bahan kimia yang biasa digunakan dalam fabrikasi semikonduktor dan fotovoltaik. Kestabilan kimia yang teguh ini memastikan jangka hayat operasi yang panjang dan meminimumkan risiko pencemaran silang antara proses berjalan.

Kelebihan serba boleh dan prestasi Boat Wafer SiC Horizontal telah membawa kepada penggunaan meluas dalam pelbagai proses pembuatan semikonduktor dan fotovoltaik kritikal:

Pertumbuhan Epitaxial:Kedudukan wafer yang tepat dan keseragaman suhu adalah penting untuk mencapai lapisan epitaxial berkualiti tinggi dalam peranti semikonduktor termaju, menjadikan Bot Wafer SiC Horizontal sebagai alat penting untuk proses ini.

Resapan dan Implantasi Ion:Kawalan doping yang tepat adalah penting dalam menentukan ciri-ciri elektrik peranti semikonduktor. Bot Wafer SiC Mendatar memastikan kedudukan wafer yang tepat semasa proses ini, yang membawa kepada keseragaman yang lebih baik dan prestasi peranti.

Pembuatan Sel Suria:Keupayaan suhu tinggi dan rintangan kimia Bot Wafer SiC Mendatar menjadikannya sesuai untuk memproses wafer silikon yang digunakan dalam sel fotovoltaik, menyumbang kepada peningkatan kecekapan dan jangka hayat sistem tenaga suria.