Susceptor Grafit Bersalut SiC MOCVD

Susceptor Grafit Bersalut Semicorex MOCVD SiC ialah komponen termaju dan khusus yang digunakan dalam proses Pemendapan Wap Kimia Logam-Organik, teknik penting dalam penghasilan semikonduktor, peranti optoelektronik dan bahan termaju lain. Susceptor ini memainkan peranan penting dalam memudahkan pertumbuhan filem nipis dan lapisan epitaxial dengan ketepatan dan kecekapan.

Susceptor Grafit Bersalut SiC MOCVD dihasilkan daripada grafit berkualiti tinggi, dipilih untuk kestabilan terma dan kekonduksian terma yang sangat baik. Sifat melekat grafit menjadikannya bahan yang ideal untuk menahan keadaan yang menuntut dalam reaktor MOCVD. Untuk meningkatkan prestasinya dan memanjangkan jangka hayatnya, suseptor grafit disalut dengan teliti dengan lapisan Silicon Carbide (SiC).

Susceptor Grafit Bersalut SiC MOCVD berdiri sebagai komponen utama dalam bidang pembuatan semikonduktor, yang merangkumi gabungan bahan termaju dan kejuruteraan ketepatan. Ketahanan, kecekapan terma dan keupayaan perlindungan menjadikannya elemen yang amat diperlukan dalam usaha mendapatkan filem nipis berkualiti tinggi dan boleh dihasilkan semula dan lapisan epitaxial yang penting untuk fabrikasi peranti elektronik dan optoelektronik termaju.