Pengenalan Ringkas Plat Grafit Ketulenan Tinggi

Dalam bidang pembuatan mewah seperti semikonduktor, fotovoltaik dan tenaga baharu, terdapat bahan yang sangat diperlukan. Ia mempunyai ketulenan ultra tinggi dan tahan terhadap suhu tinggi yang melampau dan tahan kakisan. Ia digunakan secara meluas dalam medan haba teras relau kristal tunggal, sambil memudahkan proses pembuatan ketepatan cip. Bahan berprestasi tinggi ini ialah plat grafit ketulenan tinggi.

Ketulenan tinggigrafitplat ialah bahan karbon berbentuk plat yang diperbuat daripada bahan mentah premium termasuk kok petroleum, kok pic atau grafit semulajadi ketulenan tinggi melalui satu siri proses pengeluaran seperti pengkalsinan, menguli, membentuk, membakar, grafit suhu tinggi (melebihi 2800 ℃) dan penulenan. Kelebihan utama plat grafit ketulenan tinggi ialah ketulenannya yang luar biasa, dan jumlah kandungan kekotorannya biasanya dikawal di bawah 10-50 ppm, yang bermaksud kekotoran menyumbang tidak lebih daripada 50 bahagian per juta bahan.

Mengapakah plat grafit ketulenan tinggi sangat dicari?

Penggunaan meluas plat grafit ketulenan tinggi berpunca daripada enam sifat terasnya, setiap satu dengan sempurna memenuhi keperluan ketat pembuatan mewah.

1. Ketulenan ultra tinggi diterjemahkan kepada kandungan abu yang sangat rendah dan tiada pemeruapan kekotoran pada suhu tinggi, menghalang pencemaran proses pembuatan ketepatan seperti pengeluaran wafer semikonduktor.

2. Rintangan suhu tinggi yang unggul menjadikan mereka stabil beroperasi sehingga 3000℃ dalam persekitaran lengai atau vakum.

3. Kekonduksian haba dan elektrik yang sangat baik, menampilkan pekali kekonduksian haba kira-kira 120–150 W/(m·K) dan kekonduksian elektrik hampir 70% kuprum.

4. Kestabilan kimia yang boleh dipercayai, tahan kepada asid kuat, alkali dan media yang sangat menghakis, dengan hampir tiada tindak balas terhadap logam cair.

5. Kestabilan haba yang kuat, dicirikan oleh pekali pengembangan haba yang rendah, rintangan kejutan haba yang tinggi dan ketepatan dimensi yang tinggi.

6. Kebolehmesinan yang mudah, sesuai untuk senario aplikasi yang berbeza.

Aplikasi utama plat grafit ketulenan tinggi

Aplikasi plat grafit ketulenan tinggi telah lama meresap ke semua aspek kehidupan kita, daripada cip telefon mudah alih dan sel solar kepada aeroangkasa dan kenderaan tenaga baharu.

1. Gred 3N (99.9% ketulenan) dari bidang asas mewah

Gred ini adalah kos efektif dan memenuhi keperluan pembuatan mewah biasa, digunakan secara meluas dalam metalurgi, relau vakum, rawatan haba, acuan tuangan ketepatan, produk grafit am dan komponen anti-karat kimia seperti lapisan reaktor, plat penukar haba dan pengedap.

2. Gred 4N (99.99% ketulenan) untuk teras fotovoltaik dan tenaga baharu

Sebagai gred yang paling banyak digunakan pada masa ini, ia digunakan dalam komponen teras medan haba untuk relau mono/polikristalin fotovoltaik termasuk elemen pemanasan, penutup penebat dan silinder panduan, plat pembawa untuk pengeluaran sel suria, bateri litium seperti pengumpul arus anod dan substrat konduktif, plat bipolar sel bahan api dan bahagian tambahan semikonduktor.

3. Gred 5N (99.999% ketulenan) untuk ekonduktor dan elektronik mewah

Pembuatan wafer semikonduktor (pemanas, mangkuk pijar, pembawa untuk relau kristal tunggal), proses pembuatan cip (gelang fokus untuk mesin etsa, dulang untuk peralatan pemendapan), medan haba untuk elektronik mewah dan salutan optik. Ia menuntut tahap ketulenan yang sangat tinggi dan merupakan salah satu bahan teras untuk industri cip.

Sebagai tambahan kepada aplikasi di atas, plat grafit ketulenan tinggi digunakan dalam industri ketepatan seperti aeroangkasa untuk muncung roket dan komponen penebat haba enjin aero, industri nuklear untuk penyederhana neutron dan rod kawalan untuk reaktor nuklear, elektrod EDM dan sink haba suhu tinggi.