Rumah > Berita > Berita Industri

Membincangkan relau CVD

2023-04-27

Apakah aRelau CVD?

Relau CVD (Chemical Vapor Deposition) ialah sejenis relau yang digunakan dalam industri semikonduktor untuk mendepositkan filem nipis pelbagai bahan ke atas substrat. Proses ini dijalankan dalam vakum atau persekitaran tekanan rendah, menggunakan gas reaktif yang bertindak balas dengan bahan substrat untuk membentuk filem nipis yang dikehendaki. Relau CVD ialah alat kritikal untuk menghasilkan mikrocip, sel suria dan peranti elektronik lain.




Bagaimanakah relau CVD berfungsi?

Relau CVDberfungsi dengan mewujudkan persekitaran tekanan rendah di dalam ruang dan memasukkan gas reaktif ke dalam ruang. Gas bertindak balas dengan bahan substrat dan membentuk filem nipis pada permukaan substrat. Proses ini dijalankan pada suhu tinggi, biasanya antara 500°C hingga 1200°C, bergantung pada jenis bahan yang dimendapkan.

Bahan substrat diletakkan di dalam ruang relau, dan ruang itu dimeteraikan. Gas reaktif kemudiannya dimasukkan ke dalam ruang dan dipanaskan pada suhu yang tinggi. Molekul gas bertindak balas dengan bahan substrat, dan produk yang terhasil membentuk filem nipis pada permukaan substrat.

 

Apakah aplikasi relau CVD?

Relau CVDmempunyai pelbagai aplikasi dalam industri semikonduktor, termasuk:

1. Pemendapan silikon dioksida, silikon nitrida dan bahan dielektrik lain yang digunakan dalam fabrikasi mikrocip.

2. Pemendapan polysilicon dan bahan pengalir lain yang digunakan dalam penghasilan mikrocip.

3.Pemendapan filem logam, seperti aluminium dan kuprum, digunakan dalam penyambungan antara lapisan mikrocip yang berbeza.

4. Pemendapan filem nipis untuk penghasilan sel suria.

5. Pemendapan salutan untuk pengeluaran bahagian dan alat tahan haus.

 

Kesimpulannya,Relau CVDialah alat kritikal untuk industri semikonduktor, membolehkan pengeluaran cip mikro, sel suria dan peranti elektronik lain. Ia berfungsi dengan mewujudkan persekitaran tekanan rendah di dalam ruang dan memperkenalkan gas reaktif yang bertindak balas dengan bahan substrat untuk membentuk filem nipis. Aplikasinya adalah luas dan pelbagai, menjadikannya alat penting untuk teknologi moden.


We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept