2024-11-08
Plasma ialah keadaan jirim keempat, dan ia memainkan peranan penting dalam kedua-dua aplikasi industri dan fenomena semula jadi. Sebagai contoh, plasma hadir dalam kilat dan dijana dengan banyak di permukaan matahari, di mana suhu teras mencapai 13,500°C yang mengagumkan. Plasma suhu tinggi ini tidak sesuai untuk kebanyakan proses pengeluaran perindustrian.
Sebaliknya, plasma suhu rendah ialah bentuk plasma buatan buatan yang menggunakan tenaga, bukannya haba, untuk mempercepatkan tindak balas kimia. Suhunya biasanya berjulat dari suhu bilik hingga beberapa ratus darjah Celsius, menjadikannya sangat berkesan untuk pelbagai aplikasi.
Langkah-langkah untuk Menjana Plasma Tiruan:
1. Kurangkan Tekanan dalam Chamber: Mulakan dengan menggunakan pam vakum untuk menurunkan tekanan dalam rongga. Mencapai tekanan rendah adalah penting untuk menstabilkan plasma dan memudahkan pengionan gas.
2. Perkenalkan Gas Proses: Suntikan gas proses tertentu ke dalam rongga. Gas-gas ini berfungsi sebagai sumber utama zarah dalam plasma.
3. Menggembirakan Plasma: Guna kuasa untuk mengionkan gas, membentuk plasma dengan berkesan.
4. Nyahaktifkan Plasma dan Pulihkan Tekanan Atmosfera: Setelah tindak balas yang diingini selesai, matikan plasma dan kembalikan ruang kepada tekanan atmosfera.
Aplikasi Plasma Suhu Rendah dalam Pembuatan Semikonduktor:
Plasma suhu rendah amat diperlukan dalam pembuatan semikonduktor, berfungsi dengan fungsi kritikal dalam etsa kering, pemendapan wap fizikal (PVD), pemendapan wap kimia (CVD), pemendapan lapisan atom (ALD), implantasi ion, pengabuan dan pengesanan titik akhir. Kepelbagaian dan kecekapannya menjadikannya alat asas dalam industri.
Tawaran Semicorexpenyelesaian berkualiti tinggi untuk etsa plasma. Jika anda mempunyai sebarang pertanyaan atau memerlukan butiran tambahan, sila jangan teragak-agak untuk menghubungi kami.
Hubungi # telefon +86-13567891907
E-mel: sales@semicorex.com