Grafit Berliang dengan Salutan TaC

Grafit Berliang Semicorex dengan Salutan TaC menggabungkan sifat unik grafit berliang dengan keupayaan perlindungan dan peningkatan lapisan TaC, menawarkan peningkatan ketara berbanding bahan tradisional yang digunakan dalam mangkuk pijar suhu tinggi.

Grafit dan grafit berliang, walaupun digunakan secara meluas untuk kestabilan terma dan kekonduksian elektrik, memberikan cabaran yang ketara dalam persekitaran suhu tinggi. Grafit berliang, khususnya, lebih disukai kerana kebolehtelapannya yang tinggi, yang membolehkan aliran gas yang lebih baik dan pengagihan suhu yang seragam. Walau bagaimanapun, keliangannya yang tinggi menjadikannya lemah secara mekanikal, menyebabkan kesukaran dalam pemesinan dan membentuk bahan dengan tepat. Selain itu, struktur berliang boleh mengakibatkan penumpahan zarah, yang mencemarkan kristal SiC. Grafit berliang juga terdedah kepada goresan dan degradasi kimia di bawah suhu tinggi dan persekitaran reaktif, menjejaskan integriti pijar. Begitu juga, walaupun serbuk Tantalum Carbide (TaC) sering digunakan untuk menyalut atau bercampur dengan grafit untuk meningkatkan sifatnya, penggunaan seragam dan lekatannya boleh mencabar, yang membawa kepada permukaan yang tidak rata dan potensi pencemaran.

Produk Graphite Poros dengan Salutan TaC mengatasi cabaran di atas dengan berkesan dengan menyepadukan sifat terbaik kedua-dua bahan:

Kekuatan Mekanikal yang Dipertingkatkan: Salutan TaC meningkatkan kekuatan mekanikal grafit berliang dengan ketara, menjadikan Grafit Berliang dengan Salutan TaC lebih mudah untuk dimesin dan dibentuk tanpa menjejaskan integriti struktur bahan.

Penumpahan Zarah Terkurang: Salutan TaC membentuk lapisan pelindung di atas grafit berliang, mengurangkan kemungkinan penumpahan zarah dan pencemaran kristal SiC.

Rintangan Kimia yang Diperbaiki: TaC sangat tahan terhadap goresan dan degradasi kimia, menyediakan penghalang tahan lama yang melindungi grafit berliang daripada gas reaktif dan persekitaran suhu tinggi.

Kestabilan dan Kekonduksian Terma: Kedua-dua grafit dan TaC mempamerkan kestabilan terma dan kekonduksian yang sangat baik. Gabungan Grafit Berliang dengan Salutan TaC memastikan pijar mengekalkan pengedaran suhu seragam, penting untuk pertumbuhan bebas kecacatan bagi kristal SiC.

Kebolehtelapan Dioptimumkan: Keliangan yang wujud pada grafit membolehkan aliran gas dan pengurusan haba yang cekap, manakala lapisan TaC memastikan kebolehtelapan ini dikekalkan tanpa menjejaskan integriti bahan.

Grafit Berliang Semicorex dengan Salutan TaC mewakili kemajuan ketara dalam bahan yang digunakan untuk pertumbuhan kristal SiC. Dengan menangani cabaran mekanikal, kimia dan haba yang berkaitan dengan grafit tradisional dan serbuk TaC, Grafit Berliang dengan Salutan TaC memastikan kristal SiC berkualiti tinggi dengan kecacatan yang lebih sedikit. Gabungan kebolehtelapan grafit berliang dan sifat perlindungan TaC menawarkan penyelesaian yang mantap untuk aplikasi suhu tinggi, menjadikannya bahan penting dalam pengeluaran semikonduktor dan peranti elektronik termaju.