Filamen pemanasan sic

Filamen Pemanasan Semicorex Sic, elemen pemanasan vakum yang tinggi yang dibangunkan untuk pemprosesan wafer dalam fabrikasi semikonduktor baru, adalah elemen pemanasan inovatif yang direka dengan ateras grafitdan kemelut tinggiSalutan Silicon Carbide. Filamen khas menggunakan kekonduksian terma grafit dan ketahanan dan perlindungan SIC, mengakibatkan pemanas yang stabil dan cekap tenaga dari masa ke masa. Filamen pemanasan SIC direka untuk memanaskan waform secara seragam dan mencapai spesifikasi, menjadikannya komponen yang sangat baik untuk pemprosesan semikonduktor suhu tinggi, seperti epitaxy, penyebaran, dan penyepuhlindapan.

Filamen pemanasan SIC dibuat dengan grafit kemelut tinggi kerana sifat terma grafit dan sifat elektrik yang berkualiti. Grafit menyediakan fungsi pemanasan utama yang membolehkan tindak balas pantas dan pemanasan yang cekap di bawah beban elektrik. Salutan SIC yang penuh kemurnian tinggi melindungi filamen dari sumber pencemaran yang mungkin. Salutan SIC melindungi wafer dari pencemaran kimia, dan pengoksidaan, serta zarah di dalam ruang, memanjangkan hayat berguna filamen, dan mewujudkan persekitaran ruang yang bersih.

Kualiti utama filamen pemanasan SIC adalah keupayaan untuk menyampaikan pemanasan seragam wafer. Variasi suhu di seluruh wafer boleh menyebabkan kecacatan atau hasil yang hilang. Filamen pemanasan SIC mempunyai kekonduksian terma yang sangat baik dan reka bentuk pepejal filamen memastikan haba akan stabil dan lebih seragam, mengehadkan kecerunan haba untuk kawalan proses mutlak.

Filamen pemanasan sic disesuaikan, nilai rintangan elektrik setiap filamen boleh disesuaikan untuk alat proses dan persekitaran operasi. Penyesuaian ini membolehkan teknologi karbida silikon untuk mengawal nilai rintangan geometri filamen, ketebalan salutan, dan sifat bahan. Filamen pemanasan SIC boleh sesuai dengan banyak reka bentuk relau yang berbeza dengan pelbagai saiz wafer dan resipi proses. Ini amat menggalakkan untuk pengeluar semikonduktor, kerana ia membolehkan proses semasa berjalan dengan lebih cekap dan mengekalkan keserasian dengan sistem yang sudah ada.  Ciri prestasi ketiga adalah ketahanan. Dalam proses semikonduktor suhu tinggi, elemen pemanasan terdedah kepada persekitaran kimia yang sangat agresif dan berbasikal haba berulang.

Aplikasi filamen pemanasan Semicorex SIC meliputi pelbagai proses fabrikasi peranti semikonduktor. Semasa pertumbuhan epitaxial, sebagai contoh, elemen pemanasan menyediakan suhu substrat yang stabil dan seragam untuk mendepositkan filem kristal berkualiti tinggi.