Tiub Bersalut TaC

Tiub Bersalut TaC Semicorex mewakili kemuncak sains bahan, direka bentuk untuk menahan keadaan melampau yang dihadapi dalam fabrikasi semikonduktor termaju. Dicipta dengan menggunakan lapisan TaC yang padat dan seragam pada substrat grafit isotropik ketulenan tinggi melalui Pemendapan Wap Kimia (CVD), Tiub Bersalut TaC menawarkan gabungan sifat yang menarik yang mengatasi bahan konvensional dalam menuntut persekitaran suhu tinggi dan agresif secara kimia. **

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Kuasa Semicorex TaC Coated Tube terletak pada gabungan sinergistik bahan asas dan salutan khusus:

Yayasan Grafit Isotropik Ketulenan Tinggi:Teras Tiub Bersalut TaC terbentuk daripada grafit isotropik ketulenan ultra tinggi, terkenal dengan kekonduksian terma yang sangat baik, pengembangan haba yang rendah, dan rintangan yang wujud kepada kejutan haba. Asas ini menyediakan platform yang teguh dan stabil yang mampu menahan turun naik suhu yang pantas dan ciri beban haba yang tinggi bagi pemprosesan semikonduktor.

Tantalum Carbide---Perisai Ketahanan dan Kelalaian:Salutan TaC yang digunakan CVD mengubah substrat grafit, memberikan kekerasan yang luar biasa, rintangan haus dan lengai kimia. Lapisan pelindung ini bertindak sebagai penghalang terhadap gas agresif, plasma, dan spesies reaktif yang ditemui semasa fabrikasi semikonduktor, memastikan integriti struktur tiub dan umur panjang.

Kombinasi bahan unik ini diterjemahkan kepada pelbagai kelebihan yang penting untuk pembuatan semikonduktor termaju:

Rintangan Suhu yang tiada tandingan:TaC mempunyai salah satu takat lebur tertinggi bagi semua bahan yang diketahui, mengatasi walaupun silikon karbida (SiC). Rintangan suhu melampau ini membolehkan Tiub Bersalut TaC beroperasi dengan pasti dalam proses yang memerlukan suhu melebihi 2500°C, membolehkan pengeluaran peranti semikonduktor generasi akan datang dengan belanjawan terma yang menuntut.

Ketulenan Ultra Tinggi untuk Kawalan Proses Kritikal:Mengekalkan persekitaran proses yang murni adalah penting dalam fabrikasi semikonduktor. Penggunaan grafit ketulenan tinggi dan proses salutan CVD yang teliti memastikan pengeluaran gas keluar atau zarah yang minimum daripada Tiub Bersalut TaC, menghalang pencemaran yang boleh menjejaskan permukaan wafer sensitif dan prestasi peranti.

Rintangan Kimia yang Tidak Berbelah bahagi:Lengai kimia Tiub Bersalut TaC memberikan rintangan yang luar biasa kepada pelbagai gas menghakis, ion reaktif dan persekitaran plasma yang biasa digunakan dalam proses semikonduktor seperti etsa, pemendapan dan penyepuhlindapan. Kestabilan kimia yang teguh ini diterjemahkan kepada jangka hayat tiub yang dilanjutkan, keperluan penyelenggaraan yang dikurangkan dan kos pemilikan keseluruhan yang lebih rendah.

Ketahanan Mekanikal yang Dipertingkatkan untuk Dipanjangkan Hayat Perkhidmatan:Daya ikatan yang kuat antara salutan TaC dan substrat grafit, ditambah dengan kekerasan yang wujud pada Tiub Bersalut TaC, memberikan rintangan yang luar biasa terhadap haus, hakisan dan tekanan mekanikal. Ketahanan yang dipertingkatkan ini diterjemahkan kepada hayat perkhidmatan yang lebih lama dan masa henti yang dikurangkan untuk penggantian, meningkatkan kecekapan proses dan pemprosesan.