Salutan TaC Halfmoon Atas

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon ialah komponen yang direka khusus yang disesuaikan untuk mencapai proses epitaxial berkecekapan tinggi dalam bidang pengeluaran semikonduktor. Sekeping TaC Coating Upper Halfmoon direka untuk dimuatkan dengan lancar ke dalam reaktor epitaxial, memberikan ketahanan dan kestabilan yang luar biasa dalam keadaan yang melampau.

Salutan TaC menawarkan rintangan yang sangat baik terhadap suhu tinggi, menjadikan TaC Coating Upper Halfmoon sesuai untuk persekitaran terma yang menuntut proses epitaxial. Ini memastikan prestasi yang konsisten dan jangka hayat, mengurangkan kekerapan penggantian dan masa henti. TaC Coating Upper Halfmoon boleh menahan gas menghakis dan bahan kimia yang biasa digunakan dalam pertumbuhan epitaxial, melindungi integriti komponen dan mengekalkan ketulenan proses.

Salutan TaC yang licin dan seragam meningkatkan kualiti lapisan epitaxial dengan meminimumkan kecacatan dan kekotoran. Ini menyumbang kepada kadar hasil yang lebih tinggi dan sifat elektronik unggul peranti semikonduktor. Gabungan rintangan haba dan kimia memanjangkan hayat operasi TaC Coating Upper Halfmoon, menyediakan penyelesaian kos efektif untuk mengekalkan daya pemprosesan yang tinggi dan kecekapan dalam fabrikasi semikonduktor.

Aplikasi:

Proses Pemendapan Wap Kimia Suhu Tinggi (CVD).

Epitaksi Silikon Karbida (SiC) dan Galium Nitrida (GaN).

Spesifikasi Teknikal:

Bahan: Salutan Tantalum Carbide (TaC).

Julat Suhu: Sehingga 2200°C

Rintangan Kimia: Cemerlang terhadap HF, HCl, dan gas menghakis lain

Dimensi: Boleh disesuaikan agar sesuai dengan model reaktor tertentu

Semicorex TaC Coating Upper Halfmoon ialah komponen penting untuk mencapai lapisan epitaxial berkualiti tinggi dengan kecekapan yang lebih baik dan mengurangkan risiko pencemaran. Sifat bahan termaju dan kejuruteraan yang tepat menjadikannya aset berharga dalam industri semikonduktor, menyokong pengeluaran peranti elektronik generasi akan datang.