Grafit Berliang Bersalut Tantalum Carbide

SemicorexTantalum CarbideGraphite Poros Bersalut direka khusus untuk mengoptimumkan pelbagai aspek proses pertumbuhan kristal SiC, termasuk penapisan komponen wap, pelarasan kecerunan suhu tempatan, panduan arah aliran dan kawalan kebocoran.

Sifat berliang Tantalum Carbide Coated Porous Graphite membolehkan penapisan berkesan komponen wap semasa proses pertumbuhan kristal SiC. Ini memastikan bahawa hanya bahan yang dikehendaki menyumbang kepada pembentukan kristal, meningkatkan ketulenan dan kualiti keseluruhan. Mengekalkan kawalan suhu yang tepat adalah penting dalam pertumbuhan kristal. Grafit Berliang Bersalut Tantalum Carbide meningkatkan kestabilan terma dan kekonduksian grafit berliang, membolehkan pelarasan kecerunan suhu tempatan yang lebih tepat. Ini membawa kepada kawalan yang lebih baik ke atas morfologi kristal dan kadar pertumbuhan. Reka bentuk struktur Grafit Berliang Bersalut Tantalum Carbide, digabungkan dengan lapisan TaC, memudahkan pengaliran bahan berpandu. Ini memastikan bahawa bahan dihantar tepat di mana diperlukan, menggalakkan pertumbuhan kristal seragam dan mengurangkan kemungkinan kecacatan. Kawalan yang berkesan terhadap kebocoran bahan adalah penting untuk mengekalkan integriti persekitaran pertumbuhan. TheTantalum Carbide Coated Porous Graphite memberikan sifat pengedap yang sangat baik, menghalang kebocoran yang tidak diingini dan memastikan suasana pertumbuhan yang stabil dan terkawal.

Kelebihan Tantalum Carbide Coated Porous Graphite:

Takat Lebur Tinggi dan Kestabilan Terma:TaCmempunyai takat lebur yang sangat tinggi (sekitar 3880°C) dan kestabilan haba yang sangat baik, menjadikan Tantalum Carbide Coated Porous Graphite sesuai untuk aplikasi suhu tinggi seperti pertumbuhan kristal SiC.

Lengai Kimia: TaC sangat tahan terhadap tindak balas kimia, memastikan salutan kekal utuh dan berkesan walaupun dalam persekitaran yang agresif.

Ketahanan Dipertingkat: Salutan TaC meningkatkan ketahanan grafit berliang dengan ketara, memanjangkan jangka hayat operasi Grafit Berliang Bersalut Tantalum Carbide dan mengurangkan keperluan untuk penggantian yang kerap.

Keliangan Tinggi: Keliangan grafit yang tinggi membolehkan penapisan dan kawalan aliran yang cekap, penting untuk pertumbuhan kristal berkualiti tinggi.

Ringan dan Kuat: Grafit berliang adalah ringan dan kuat dari segi mekanikal, menjadikannya mudah dikendalikan dan mampu menahan kerasnya proses pertumbuhan kristal.

Kekonduksian Terma: Kekonduksian haba grafit yang sangat baik memastikan pengagihan haba yang cekap, penting untuk mengekalkan kecerunan suhu yang konsisten.

Semicorex Tantalum Carbide Coated Porous Graphite mewakili kemajuan yang ketara dalam bahan pertumbuhan kristal SiC. Dengan menggabungkan sifat unik TaC dengan kelebihan grafit berliang yang wujud, bahan ini memberikan prestasi unggul dalam penapisan komponen wap, pelarasan kecerunan suhu, panduan arah aliran dan kawalan kebocoran. Kestabilan terma yang teguh, lengai kimia dan ketahanan yang dipertingkat menjadikannya aset yang tidak ternilai dalam mengejar kristal SiC berkualiti tinggi.