Chuck Vakum Al2O3

Aplikasi dalam Pembuatan Semikonduktor

SemicorexAl2O3 Vacuum Chuck ialah alat serba boleh yang digunakan merentasi pelbagai peringkat pengeluaran semikonduktor:

Penipisan: Semasa proses penipisan wafer, Al2O3 Vacuum Chuck menyediakan sokongan yang stabil dan seragam, memastikan pengurangan substrat berketepatan tinggi. Ini penting untuk meningkatkan pelesapan haba cip dan meningkatkan prestasi peranti.

Dicing: Dalam peringkat dadu, di mana wafer dipotong menjadi cip individu, Al2O3 Vacuum Chuck menawarkan penjerapan yang selamat dan stabil, meminimumkan risiko kerosakan dan memastikan pemotongan bersih.

Pembersihan: Permukaan penjerapan licin dan seragam Al2O3 Vacuum Chuck menjadikannya sesuai untuk proses pembersihan wafer, memastikan bahan cemar dikeluarkan dengan berkesan tanpa merosakkan wafer.

Pengangkutan: Semasa pengendalian dan pengangkutan wafer, Al2O3 Vacuum Chuck menyediakan sokongan yang boleh dipercayai dan selamat, mengurangkan risiko kerosakan dan pencemaran.

SemicorexvakumAliran Chuck

Kelebihan Semicorex Al2O3 Vacuum Chuck

1. Teknologi Seramik Mikro-Berliang Seragam

Chuck Vakum Al2O3 dibina menggunakan teknologi seramik berliang mikro, yang melibatkan penggunaan serbuk nano bersaiz seragam. Teknologi ini memastikan bahawa liang-liang diagihkan secara sama rata dan saling berkaitan, menghasilkan keliangan yang tinggi dan struktur padat yang seragam. Keseragaman ini meningkatkan prestasi chuck vakum, memberikan sokongan wafer yang konsisten dan boleh dipercayai.

2. Sifat Bahan Luar Biasa

Alumina 99.99% ultra tulen (Al2O3) yang digunakan dalam Al2O3 Vacuum Chuck menawarkan pelbagai sifat yang luar biasa:

Sifat Terma: Dengan rintangan haba yang tinggi dan kekonduksian terma yang sangat baik, Al2O3 Vacuum Chuck boleh menahan suhu tinggi yang biasa ditemui dalam pembuatan semikonduktor.

Sifat Mekanikal: Kekuatan dan kekerasan tinggi Alumina memastikan bahawa Al2O3 Vacuum Chuck tahan lama dan tahan haus dan lusuh, memberikan prestasi yang tahan lama.

Sifat Lain: Alumina juga menawarkan penebat elektrik yang tinggi dan rintangan kakisan, menjadikan Al2O3 Vacuum Chuck sesuai untuk pelbagai persekitaran pembuatan.

3. Kerataan dan Paralelisme Unggul

Salah satu kelebihan utama Al2O3 Vacuum Chuck ialah kerataan dan keselarian yang tinggi. Ciri-ciri ini adalah penting untuk memastikan pengendalian wafer yang tepat dan stabil, meminimumkan risiko kerosakan dan memastikan hasil pemprosesan yang konsisten. Selain itu, kebolehtelapan udara yang baik dan daya penjerapan seragam Al2O3 Vacuum Chuck memastikan operasi yang lancar dan boleh dipercayai.

4. Pilihan Penyesuaian

Di Semicorex, kami memahami bahawa setiap proses pembuatan semikonduktor mempunyai keperluan yang unik. Itulah sebabnya kami menawarkan Chuck Vakum tersuai yang disesuaikan untuk memenuhi keperluan khusus anda. Bergantung pada kerataan dan kos pengeluaran yang diperlukan, kami mengesyorkan bahan asas yang berbeza, memastikan berat dan prestasi chuck vakum dioptimumkan untuk aplikasi anda. Bahan-bahan ini termasuk keluli tahan karat SUS430, Aloi Aluminium 6061, seramik Alumina padat (warna gading), granit, dan seramik karbida silikon padat.

Pengukuran CMM Chuck Vakum Al2O3