Alumina Robot Arm

Semicorex alumina robot lengan adalah bahagian seramik berprestasi tinggi yang direka untuk pengendalian wafer dan tugas pemindahan dalam pengeluaran semikonduktor. Diperbuat daripada seramik alumina kemelut tinggi (al₂o₃), lengan robot ini menawarkan fleksibiliti, ketepatan, kebolehpercayaan, dan ketahanan dalam bilik bersih.

Apa yang menonjol memihak kepada lengan robot alumina adalah sifatAlumina Seramikkekuatan dan kekerasan mekanikal. SebagaiAluminadibuat lebih tulen, alumina mengekalkan integriti struktur yang lebih baik dan menjadikannya lebih tahan terhadap memakai mekanikal dan ubah bentuk. Sebagai bahan, alumina adalah pilihan yang baik untuk bahagian-bahagian robotik yang digunakan dalam tugas-tugas pengendalian wafer yang halus dan berulang, iaitu apabila lengan robot perlu melaksanakan fungsi yang sama dan membuat hubungan dengan wafer, distorsi kecil yang digunakan untuk wafer oleh lengan robot dapat menelan kos kerugian kemudahan. Kekerasan yang tinggi, iaitu permukaan tegar, boleh membantu dengan rintangan yang kasar dan kehidupan berfungsi, iaitu memperluaskan kehidupan dan tempoh perkhidmatan/ penggantian pada komponen robot.

Di luar ketahanan mekanikalnya, lengan robot alumina juga merupakan penebat elektrik yang sangat baik. Resistiviti adalah sehingga 10¹⁵ Ω · cm dan kekuatan penebat adalah sehingga 15 kV/mm pada suhu bilik, menyediakan persekitaran yang lebih selamat untuk beroperasi, terutama apabila mengganggu isyarat elektrik mesti dikurangkan dalam peralatan pemprosesan. Ini menjadi penting apabila melindungi komponen semikonduktor sensitif yang memindahkan antara proses dengan risiko kerosakan elektrostatik (ESD) yang minimum.

Seramik alumina sangat baik untuk mengekalkan kestabilan di seluruh suhu yang sangat tinggi. Titik lebur adalah kira -kira 2050 ° C dan akan menahan suhu tinggi dalam pemprosesan haba semikonduktor tanpa ketepatan atau ketepatan dimensi. Rintangan haba yang tinggi membolehkan lengan digunakan dalam proses seperti penyepuhlindapan haba yang cepat (RTA) atau pemendapan wap kimia (CVD), di mana penjajaran ketepatan dan kestabilan terma adalah kritikal.

Salah satu manfaat penting lain dari lengan robot alumina adalah kesederhanaannya. Permukaannya tidak aktif kepada kebanyakan agen pembersihan dan proses proses yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor. Oleh itu, ia akan kekal bebas pencemaran dan tidak menyumbang kepada pencemaran permukaan wafer. Kekurangan kimia ini adalah kunci untuk mencapai keadaan pengeluaran ultra-bersih dan menyediakan prestasi peranti yang konsisten.

Alumina Seramikjuga merupakan pilihan yang berpatutan untuk perkakas semikonduktor. Ia mudah didapati sebagai bahan mentah dan proses pemesinan seramik alumina difahami dengan baik dan mudah berskala. Ini membolehkan toleransi yang boleh dihasilkan dan konsisten untuk bahagian berkualiti tinggi yang akan dihasilkan pada harga yang kompetitif. Campuran prestasi dan kemampuan menjadikan lengan robot alumina sesuai untuk fabs OEM dan semikonduktor di mana anda memerlukan komponen automasi yang boleh dipercayai yang tidak memecahkan bank.

Ringkasnya, lengan robot alumina menyediakan prestasi mekanikal yang tinggi, prestasi dielektrik yang tinggi, rintangan terma yang tinggi, prestasi kimia yang tinggi, semuanya dengan pembuatan terbukti pada harga ekonomi. Secara kolektif, ciri -ciri prestasi ini menjadikannya boleh dipercayai dan cekap untuk aplikasi pengendalian wafer ketepatan dalam pembuatan semikonduktor, yang membolehkan hasil yang lebih baik, berpotensi menurunkan risiko pencemaran dan meningkatkan keberkesanan peralatan keseluruhan.