Kepala pancuran mandian CVD dengan SiC Coat

Kepala pancuran mandian Semicorex CVD dengan SiC Coat mewakili komponen termaju yang direka bentuk untuk ketepatan dalam aplikasi industri, terutamanya dalam lingkungan pemendapan wap kimia (CVD) dan pemendapan wap kimia dipertingkatkan plasma (PECVD). Berfungsi sebagai saluran kritikal untuk penghantaran gas prekursor atau spesies reaktif, kepala pancuran mandian CVD khusus ini dengan SiC Coat memudahkan pemendapan bahan yang tepat pada permukaan substrat, yang penting dalam proses pembuatan yang canggih ini.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Dibina daripada grafit ketulenan tinggi dan diselubungi lapisan SiC nipis melalui kaedah CVD, kepala pancuran mandian CVD dengan SiC Coat menggabungkan ciri-ciri berfaedah kedua-dua grafit dan SiC. Sinergi ini menghasilkan komponen yang bukan sahaja cemerlang dalam memastikan pengedaran gas yang konsisten dan tepat tetapi juga mempunyai daya tahan yang luar biasa terhadap kekerasan terma dan kimia yang sering ditemui dalam persekitaran pemendapan.

Kunci kepada kefungsian kepala pancuran mandian CVD dengan SiC Coat ialah kecekapannya dalam menyebarkan gas prekursor secara seragam merentasi permukaan substrat, satu tugas yang dicapai melalui penempatan strategiknya di atas substrat dan reka bentuk lubang kecil atau muncung yang teliti di permukaannya. Pengagihan seragam ini adalah penting untuk mencapai hasil pemendapan yang konsisten.

Pilihan SiC sebagai bahan salutan untuk kepala pancuran CVD dengan SiC Coat tidak sewenang-wenangnya tetapi dimaklumkan oleh kekonduksian terma yang unggul dan kestabilan kimia. Sifat-sifat ini penting untuk mengurangkan pengumpulan haba semasa proses pemendapan dan mengekalkan suhu sekata merentas substrat, selain menyediakan pertahanan yang teguh terhadap gas menghakis dan keadaan keras yang melambangkan proses CVD.

Disesuaikan untuk memenuhi permintaan khusus sistem CVD yang berbeza-beza dan keperluan proses, reka bentuk kepala pancuran mandian CVD dengan SiC Coat merangkumi bentuk plat atau cakera yang dilengkapi dengan susunan lubang atau slot yang dikira dengan teliti. kepala pancuran mandian CVD dengan reka bentuk SiC Coat memastikan bukan sahaja pengagihan gas seragam tetapi juga kadar aliran optimum yang penting untuk proses pemendapan, menyerlahkan peranan komponen sebagai peneraju dalam mengejar ketepatan dan keseragaman dalam proses pemendapan bahan.