Kepala Pancuran CVD-SiC

Kepala pancuran mandian Semicorex CVD-SiC menyediakan ketahanan, pengurusan haba yang sangat baik, dan ketahanan terhadap degradasi kimia, menjadikannya pilihan yang sesuai untuk menuntut proses CVD dalam industri semikonduktor. Semicorex komited untuk menyediakan produk berkualiti pada harga yang kompetitif, kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Dalam konteks kepala pancuran CVD, kepala pancuran CVD-SiC biasanya direka untuk mengagihkan gas prekursor secara sama rata ke atas permukaan substrat semasa proses CVD. Kepala pancuran mandian biasanya diletakkan di atas substrat, dan gas prekursor mengalir melalui lubang kecil atau muncung pada permukaannya.

Bahan CVD-SiC yang digunakan di kepala pancuran mandian menawarkan beberapa kelebihan. Kekonduksian terma yang tinggi membantu menghilangkan haba yang dijana semasa proses CVD, memastikan pengagihan suhu seragam merentasi substrat. Selain itu, kestabilan kimia SiC membolehkannya menahan gas menghakis dan persekitaran keras yang biasa ditemui dalam proses CVD.

Reka bentuk kepala pancuran mandian CVD-SiC boleh berbeza-beza bergantung pada sistem CVD dan keperluan proses tertentu. Walau bagaimanapun, ia biasanya terdiri daripada plat atau komponen berbentuk cakera dengan susunan lubang atau slot gerudi ketepatan. Corak lubang dan geometri direka bentuk dengan teliti untuk memastikan pengagihan gas dan kadar aliran seragam merentasi permukaan substrat.