Tiub Relau untuk LPCVD

Proses LPCVD ialah proses pemendapan filem nipis yang dijalankan di bawah keadaan vakum tekanan rendah (biasanya antara 0.1 hingga 1 Torr). Keadaan operasi vakum tekanan rendah ini boleh membantu menggalakkan resapan seragam gas prekursor merentasi permukaan wafer, menjadikannya ideal untuk pemendapan tepat bahan termasuk Si₃N₄, poli-Si, SiO₂, PSG dan filem logam tertentu seperti tungsten.

Tiub relauadalah komponen penting untuk LPCVD, yang berfungsi sebagai ruang penciptaan yang stabil untuk pemprosesan LPCVD wafer dan menyumbang kepada keseragaman filem yang luar biasa, liputan langkah yang luar biasa, dan kualiti filem tinggi wafer semikonduktor.

Kelebihan tiub relau Semicorex untuk LPCVD

1. Prestasi Pengedap yang boleh dipercayai

Tiub relau semicorex untuk LPCVD dihasilkan menggunakan teknologi percetakan 3D, menampilkan struktur integral yang lancar. Struktur integral bebas kelemahan ini mengelakkan jahitan dan risiko kebocoran yang berkaitan dengan proses kimpalan atau pemasangan tradisional, memastikan pengedap proses yang lebih baik.  Tiub relau semicorex untuk LPCVD amat sesuai untuk proses LPCVD bertekanan rendah dan suhu tinggi, yang boleh mengelakkan kebocoran gas proses dan pencerobohan udara luar dengan ketara.

2. Sifat terma yang sangat baik

Dihasilkan daripada bahan mentah gred semikonduktor berkualiti tinggi, tiub relau Semicorex untuk LPCVD menampilkan kekonduksian terma yang tinggi dan rintangan kejutan haba yang sangat baik. Sifat terma yang luar biasa ini menjadikan tiub relau Semicorex untuk LPCVD beroperasi secara stabil pada suhu antara 600 hingga 1100°C dan menyediakan pengagihan suhu seragam untuk pemprosesan haba wafer berkualiti tinggi.

3. Kawalan kebersihan yang ketat

Semicorex mengawal kebersihan tiub relau bermula pada peringkat pemilihan bahan. Penggunaan bahan mentah berketulenan tinggi memberikan tiub relau Semicorex untuk LPCVD kandungan kekotoran rendah yang tiada tandingan. Tahap kekotoran bahan matriks dikawal di bawah 100 PPM dan bahan salutan SiC CVD disimpan di bawah 1 PPM. Selain itu, setiap tiub relau menjalani pemeriksaan kebersihan yang rapi sebelum penghantaran untuk mengelakkan pencemaran bendasing semasa proses LPCVD.

4. perlindungan salutan yang seragam dan padat

Melalui pemendapan wap kimia, tiub relau Semicorex untuk LPCVD ditutup dengan kukuh dengan salutan SiC yang padat dan seragam. IniSalutan CVD SiCmempamerkan lekatan yang kuat, yang berkesan menghalang risiko pengelupasan salutan dan kemerosotan komponen walaupun terdedah kepada keadaan suhu tinggi dan menghakis yang teruk.