Semicorex Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor ialah penyelesaian ideal untuk epitaksi grafit dan proses pengendalian wafer. Produk ultra-tulen kami memastikan pencemaran minimum dan prestasi jangka hayat yang luar biasa, menjadikannya pilihan popular di banyak pasaran Eropah dan Amerika. Sebagai pembekal utama pembawa wafer semikonduktor di China, kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda.
Susceptor epitaxial Silicon Monocrystalline kami ialah produk grafit yang disalut dengan SiC ketulenan tinggi, yang mempunyai rintangan haba dan kakisan yang tinggi. Pembawa bersalut silikon karbida CVD digunakan dalam proses yang membentuk lapisan epitaxial pada wafer semikonduktor. Ia mempunyai kekonduksian haba yang tinggi dan sifat pengagihan haba yang sangat baik, yang penting untuk proses pembuatan semikonduktor yang cekap dan tepat.
Salah satu ciri utama Susceptor Wafer Silikon Monocrystalline kami ialah ketumpatannya yang sangat baik. Kedua-dua substrat grafit dan lapisan silikon karbida mempunyai ketumpatan yang baik dan boleh memainkan peranan perlindungan yang baik dalam persekitaran kerja suhu tinggi dan menghakis. Susceptor bersalut silikon karbida yang digunakan untuk pertumbuhan kristal tunggal mempunyai kerataan permukaan yang sangat tinggi, yang penting untuk mengekalkan pengeluaran wafer berkualiti tinggi.
Satu lagi ciri penting produk kami ialah keupayaannya untuk mengurangkan perbezaan dalam pekali pengembangan haba antara substrat grafit dan lapisan silikon karbida. Ini secara berkesan meningkatkan kekuatan ikatan, mencegah keretakan dan delaminasi. Selain itu, kedua-dua substrat grafit dan lapisan silikon karbida mempunyai kekonduksian terma yang tinggi dan sifat pengagihan haba yang sangat baik, memastikan haba diagihkan sama rata semasa proses pembuatan.
Susceptor Wafer Silikon Monocrystalline kami juga tahan terhadap pengoksidaan dan kakisan suhu tinggi, menjadikannya produk yang boleh dipercayai dan tahan lama. Takat leburnya yang tinggi memastikan ia dapat menahan persekitaran suhu tinggi yang diperlukan untuk pembuatan semikonduktor yang cekap.
Kesimpulannya, Semicorex Monocrystalline Silicon Wafer Susceptor ialah penyelesaian ultra tulen, tahan lama dan boleh dipercayai untuk proses pengendalian epitaksi grafit dan wafer. Ketumpatannya yang sangat baik, kerataan permukaan dan kekonduksian terma menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis. Kami berbangga dalam menyediakan produk berkualiti tinggi pada harga yang kompetitif dan berharap dapat bekerjasama dengan anda untuk semua keperluan pembawa wafer semikonduktor anda.
Parameter Susceptor Wafer Silikon Monocrystalline
Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC |
||
Sifat SiC-CVD |
||
Struktur Kristal |
fasa FCC β |
|
Ketumpatan |
g/cm ³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Saiz Bijirin |
μm |
2~10 |
Ketulenan Kimia |
% |
99.99995 |
Kapasiti Haba |
J kg-1 K-1 |
640 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 mata) |
415 |
Modulus Muda |
Gpa (4pt selekoh, 1300℃) |
430 |
Pengembangan Terma (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Kekonduksian terma |
(W/mK) |
300 |
Ciri-ciri Susceptor Wafer Silikon Monocrystalline
- Elakkan mengelupas dan pastikan salutan pada semua permukaan
Rintangan pengoksidaan suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi sehingga 1600°C
Ketulenan tinggi: dibuat oleh pemendapan wap kimia CVD di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
Rintangan kakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat dan zarah halus.
Rintangan kakisan: asid, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai corak aliran gas lamina terbaik
- Menjamin kesekataan profil terma
- Elakkan sebarang pencemaran atau resapan bendasing