Berita Industri

Mengapa memilih suseptor grafit bersalut SiC?

Susceptor grafit adalah salah satu bahagian penting dalam peralatan MOCVD, adalah pembawa dan pemanas substrat wafer. Sifat kestabilan terma dan keseragaman terma memainkan peranan penting dalam kualiti pertumbuhan epitaksi wafer, yang secara langsung menentukan keseragaman dan ketulenan bahan lapis......

Apakah proses SiC epitaxial?

Dalam medan voltan tinggi, terutamanya untuk peranti voltan tinggi melebihi 20,000V, teknologi epitaxial SiC masih menghadapi beberapa cabaran. Salah satu kesukaran utama ialah mencapai keseragaman, ketebalan, dan kepekatan doping yang tinggi dalam lapisan epitaxial. Untuk fabrikasi peranti voltan t......

Pertumbuhan besar pasaran suseptor grafit bersalut SiC

MOCVD ialah peralatan utama

Dana untuk projek Semikonduktor

Setiap negara menyedari kepentingan cip dan kini sedang mempercepatkan pembinaan ekosistem rantaian bekalan pembuatan cip sendiri untuk mengelakkan masalah kekurangan cip yang lain. Tetapi faundri termaju tanpa pereka cip generasi seterusnya akan sama seperti âFabs tanpa Cipâ.

TSMC: Pengeluaran percubaan risiko proses 2nm tahun depan

Dalam laporan tahunan mereka yang baru dikeluarkan, Pengerusi TSMC Deyin Liu dan Ketua Pegawai Eksekutif Chieh-Jia Wei mendedahkan kemajuan yang berkaitan dengan proses 2nm.