> Berita > Berita Syarikat

Berita Syarikat

Proses Plasma dalam Operasi CVD

Pemendapan Wap Kimia (CVD) merujuk kepada teknologi proses di mana berbilang bahan tindak balas gas pada tekanan separa yang berbeza-beza menjalani tindak balas kimia di bawah keadaan suhu dan tekanan tertentu. Bahan pepejal yang terhasil mendapan pada permukaan bahan substrat, dengan itu memperoleh......

Baca Lagi

Lapisan dan Substrat Epitaxial Silikon dalam Pembuatan Semikonduktor

Dalam bidang elektronik moden, optoelektronik, mikroelektronik dan teknologi maklumat, substrat semikonduktor dan teknologi epitaxial amat diperlukan. Mereka menyediakan asas yang kukuh untuk mengeluarkan peranti semikonduktor berprestasi tinggi dan kebolehpercayaan tinggi. Apabila teknologi terus m......

Baca Lagi

Kepentingan bahan grafit berliang kepada pertumbuhan kristal SiC

Komponen relau pertumbuhan kristal SiC Semicorex, tong grafit berliang, akan membawa tiga faedah utama dan boleh mengukuhkan daya saing substrat SiC domestik dengan berkesan:

Baca Lagi

Syarikat perindustrian substrat Gallium Oxide 6 inci yang pertama

Baru-baru ini, syarikat kami mengumumkan bahawa syarikat itu telah berjaya membangunkan kristal tunggal Gallium Oxide 6-inci menggunakan kaedah tuangan, menjadi syarikat perindustrian domestik pertama yang menguasai teknologi penyediaan substrat kristal tunggal Gallium Oxide 6-inci.

Baca Lagi

Bahan penebat medan haba

Proses pertumbuhan silikon monohabluran kebanyakannya berlaku dalam medan haba, di mana kualiti persekitaran terma memberi kesan ketara kepada kualiti kristal dan kecekapan pertumbuhan. Reka bentuk medan haba memainkan peranan penting dalam membentuk kecerunan suhu dan dinamik aliran gas dalam ruang......

Baca Lagi

Apakah suseptor grafit bersalut SiC?

Untuk memperkenalkan suseptor grafit bersalut SiC, adalah penting untuk memahami penggunaannya. Apabila peranti pembuatan, lapisan epitaxial selanjutnya diperlukan untuk dibina pada beberapa substrat wafer.

Baca Lagi

<...4 5 6 7 8...9 >