Pemendapan Wap Kimia (CVD) ialah teknik pemendapan filem nipis serba boleh yang digunakan secara meluas dalam industri semikonduktor untuk fabrikasi filem nipis konform yang berkualiti tinggi pada pelbagai substrat. Proses ini melibatkan tindak balas kimia prekursor gas ke atas permukaan substrat ya......
Baca LagiArtikel ini menyelidiki penggunaan dan trajektori masa depan bot silikon karbida (SiC) berhubung dengan bot kuarza dalam industri semikonduktor, khususnya memfokuskan pada aplikasinya dalam pembuatan sel suria.
Baca LagiPertumbuhan wafer epitaxial Gallium Nitride (GaN) adalah proses yang kompleks, selalunya menggunakan kaedah dua langkah. Kaedah ini melibatkan beberapa peringkat kritikal, termasuk pembakar suhu tinggi, pertumbuhan lapisan penimbal, penghabluran semula dan penyepuhlindapan. Dengan mengawal suhu deng......
Baca LagiEtsa adalah proses penting dalam pembuatan semikonduktor. Proses ini boleh dikategorikan kepada dua jenis: goresan kering dan goresan basah. Setiap teknik mempunyai kelebihan dan batasannya sendiri, menjadikannya penting untuk memahami perbezaan antara mereka. Jadi, bagaimana anda memilih kaedah ets......
Baca LagiSemikonduktor generasi ketiga semasa adalah berasaskan Silicon Carbide, dengan substrat menyumbang 47% daripada kos peranti, dan epitaksi menyumbang 23%, berjumlah kira-kira 70% dan membentuk bahagian paling penting dalam industri pembuatan peranti SiC.
Baca Lagi