Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ialah produk yang sangat tahan lama dan boleh dipercayai untuk mengembangkan lapisan epixial pada cip wafer. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi dan ketulenan tinggi menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial berkualiti tinggi.
Baca LagiHantar Pertanyaan