Si Epitaksi

Si epitaxy membolehkan kejuruteraan sifat lapisan tertentu, seperti ketebalan, kepekatan doping dan komposisi. Dengan memasukkan jumlah kekotoran terkawal, dikenali sebagai dopan, ke dalam lapisan epitaxial, ciri-ciri elektrik peranti yang terhasil boleh disesuaikan dengan tepat. Ini membolehkan penciptaan kawasan yang berbeza dengan jenis kekonduksian yang berbeza (jenis-n atau jenis-p) dan kepekatan pembawa yang dikehendaki, membolehkan penyepaduan litar elektronik yang kompleks.

Si epitaxy ialah proses asas dalam pembuatan peranti semikonduktor termaju, termasuk mikropemproses, cip memori, penderia imej dan sel suria. Ia memainkan peranan penting dalam meningkatkan prestasi peranti, pengecilan dan kefungsian. Keupayaan untuk mendepositkan lapisan epitaxial berkualiti tinggi dengan kawalan tepat ke atas sifat bahan menyumbang kepada kemajuan dan inovasi yang berterusan dalam industri semikonduktor.