Substrat Gallium Oksida 2"

Substrat Gallium Oxide Semicorex 2" mewakili lembaran baharu dalam kisah semikonduktor generasi keempat, dengan kadar pengeluaran besar-besaran dan pengkomersilan yang semakin pantas. Substrat ini mempamerkan faedah luar biasa untuk pelbagai aplikasi teknologi canggih. Substrat Gallium Oxide bukan sahaja melambangkan kemajuan yang ketara dalam teknologi semikonduktor tetapi juga membuka jalan baharu untuk meningkatkan kecekapan dan prestasi peranti merentas spektrum industri yang mempunyai kepentingan tinggi Kami di Semicorex berdedikasi untuk mengeluarkan dan membekalkan Substrat Gallium Oksida berprestasi tinggi yang menggabungkan kualiti dengan kecekapan kos.**

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Pengesanan Cahaya Ultraungu dan Peralatan Kuasa: Celah jalur lebar Semicorex 2" Gallium Oxide Substrat sebanyak kira-kira 4.8-4.9 eV membolehkan mereka cemerlang dalam aplikasi seperti pengesan cahaya ultraviolet dan peralatan kuasa, di mana ia mempamerkan prestasi unggul dalam mengurus keadaan voltan tinggi dan kuasa dengan cekap .

Operasi Suhu Tinggi: Substrat Gallium Oxide 2" kestabilan suhu tinggi yang sangat baik membolehkan mereka beroperasi dalam persekitaran sehingga 1200 darjah Celsius. Ciri ini menjadikannya sangat sesuai untuk aplikasi suhu tinggi, berkuasa tinggi dan frekuensi tinggi , mengatasi banyak bahan semikonduktor lain.

Medan Pecahan Tinggi: Kekuatan medan pecahan tinggi 2" Substrat Gallium Oxide menjadikannya calon yang sangat baik untuk aplikasi voltan tinggi, meningkatkan kebolehpercayaan dan jangka hayat peranti dengan ketara seperti penukar kuasa dan penyongsang.

Rintangan Kimia: Kestabilan kimia yang tinggi bagi Substrat Gallium Oksida 2" di bawah keadaan suhu dan tekanan standard memastikan rintangan terhadap banyak asid dan bes, meningkatkan ketahanan dan jangka hayatnya dalam persekitaran kimia yang keras.

Gabungan unik sifat-sifat ini meletakkan Semicorex 2" Gallium Oxide Substrat sebagai bahan serba boleh dalam bidang elektronik kuasa, optoelektronik, fotokatalisis dan penderiaan gas. Potensi aplikasinya yang meluas adalah disebabkan keupayaannya untuk berprestasi dengan pasti dalam keadaan yang mencabar, mendorong sempadan keupayaan semikonduktor semasa.