Cincin atas epi 8 inci

Semicorex 8 inci EPI Top Ring adalah komponen khusus sistem pemendapan epitaxial (EPI) yang menyediakan prestasi tinggi sebagai cincin penutup atas pada ruang tindak balas. Dengan tumpuan kepada integriti struktur dan kestabilan terma semasa pertumbuhan epitaxial wafer semikonduktor, cincin atas EPI diperbuat daripada grafit kemelut tinggi dan disalut dengan karbida silikon (sic) untuk menahan suhu dan persekitaran reaktif kimia pembuatan semikonduktor.

Dalam reaktor epitaxial, cincin teratas membantu mengekalkan persekitaran wafer dan memainkan peranan penting dalam keseragaman suhu dan aliran gas semasa pemendapan sebagai sebahagian daripada perhimpunan susceptor. Salutan SIC pada substrat grafit menyediakan cincin atas EPI dengan kestabilan terma dan persekitaran lengai yang diperlukan untuk melindungi teras grafit disebabkan oleh pendedahan kepada proses proses semasa prestasi cincin atas EPI (hidrogen, silan, clorosilanes, dan lain -lain). Kekerasan dan kekonduksian lapisan SIC meningkatkan prestasi cincin atas EPI dengan mencegah kemerosotan dan membolehkan lapisan yang lebih stabil sepanjang kitaran pengeluaran.

Dengan komitmen terhadap ketepatan dimensi, konsistensi salutan, dan kebolehulangan, cincin atas EPI 8 inci dihasilkan dengan kejuruteraan ketepatan. Substrat grafit dimesin ke toleransi yang ketat dan disucikan secara termal untuk memisahkan kekotoran, menyampaikan substrat yang bersih dengan kesucian dan kekuatan yang sangat baik. Lapisan SIC digunakan melalui pemendapan wap kimia (CVD), untuk membentuk lapisan pelindung yang padat, konsisten, dan kuat. Proses ini meminimumkan penjanaan zarah dan membolehkan salutan mengekalkan integriti permukaan semasa penggunaan lanjutan.

Pengeluar semikonduktor bergantung kepada cincin atas epi untuk mengekalkan parameter ruang kritikal dan menyokong wafer bebas kecacatan semasa pengeluaran. Konfigurasi ini direka untuk digunakan dengan sistem pemprosesan wafer OEM 8-inci terkemuka. Pilihan tersuai boleh didapati untuk ketebalan, kemasan permukaan, dan reka bentuk grooved untuk pengurusan terma yang lebih baik atau pengedaran gas.

Menyesuaikan sifat grafit bersalut SIC untuk aplikasi ini mengambil kombinasi yang terbaik dari sifat -sifat dari kedua -dua bahan; Grafit sangat boleh disesuaikan dan mempunyai rintangan kejutan termal yang digabungkan dengan karbida silikon yang lebih keras, tahan kakisan, dan mempunyai hayat perkhidmatan yang lebih lama. Gabungan ini akhirnya memberikan anda cincin atas EPI yang boleh dipercayai pada suhu tinggi, dan menjamin persekitaran pemprosesan yang bersih dan stabil yang mengurangkan selang penyelenggaraan, dan menyediakan peralatan yang dipertingkatkan secara keseluruhan.

Komponen grafit memainkan peranan penting dan penting dalam pembuatan semikonduktor. Kualiti bahan grafit memberi kesan yang signifikan terhadap kualiti produk siap. Konsistensi batch grafit kami dan homogeniti bahan dikawal dan dijamin sepanjang proses pengeluaran.

1. Pengeluaran Batch-Batch, menggunakan relau karbonisasi kecil dengan kapasiti hanya 50 meter padu.

2. Setiap bahan dipantau dan dikesan.

3. Pemantauan pemantauan pada pelbagai titik dalam relau memastikan perbezaan suhu yang minimum.

4. Pemantauan pada pelbagai titik pada bahan memastikan perbezaan suhu yang minimum.

Cincin Top Epi 8-inci oleh Semicorex menawarkan prestasi yang luar biasa, konsistensi batch-to-batch, dan kebolehpercayaan yang terbukti dalam silikon semikonduktor yang paling sukar, karbida silikon atau proses epitaxy semikonduktor kompaun lain. Pada setiap langkah pembuatan, kami menghasilkan produk dengan kawalan kualiti, yang bermaksud setiap produk yang dibeli untuk industri semikonduktor melebihi spesifikasi kualiti.

Pilih cincin atas EPI 8 inci Semicorex untuk aplikasi epitaxy anda untuk memanfaatkan kemungkinan yang ditawarkan melalui kejuruteraan ketepatan, bahan unggul, dan penyesuaian khusus aplikasi untuk meningkatkan hasil dan prestasi peranti.