Gelang Fokus Seramik untuk Semikonduktor

Seramik semicorexcincin fokuss untuk semikonduktor adalah penyelesaian ideal yang disesuaikan untuk keadaan operasi etsa plasma yang keras. Semasa proses goresan semikonduktor yang canggih, adalah penting untuk mengawal pengedaran plasma dengan tepat, yang boleh memastikan kestabilan ruang goresan dan keseragaman goresan semikonduktor yang konsisten. Sebagai komponen yang sangat diperlukan dalam peralatan etsa lanjutan, gelang fokus biasanya diletakkan di sekeliling wafer semikonduktor dan bersentuhan langsung dengannya. Prestasi cincin fokus memberi kesan langsung pada kebolehulangan proses, hasil produk dan masa operasi peralatan.

Kelebihan cincin fokus seramik Semicorex untuk semikonduktor

1. Ketulenan bahan yang sangat tinggi

Kesucian kitaCVD SiCbahan melebihi 99.9995%. Ini secara berkesan boleh menghalang pencemaran ruang etsa dan wafer semikonduktor yang disebabkan oleh ketulenan bahan yang tidak mencukupi.

2. rintangan kakisan yang luar biasa

Cincin fokus seramik semicorex untuk semikonduktor diperbuat daripada CVD SiC, menampilkan rintangan yang sangat baik terhadap pengoksidaan, hakisan dan kakisan kimia, berkesan terutamanya terhadap gas proses seperti HF dan HCI, serta gas plasma.

3. Prestasi rintangan yang unggul

Keseragaman rintangan cincin fokus seramik Semicorex untuk semikonduktor adalah kurang daripada 5%.

Julat kerintangan: Res Rendah. (<0.02 Ω·cm), Pertengahan. (0.2–25 Ω·cm), Resolusi Tinggi. (>100 Ω·cm).

Fungsi cincin fokus seramik Semicorex untuk semikonduktor

1.Mengawal dan menyeragamkan medan elektrik tepi dan pengedaran plasma

Cincin fokus seramik semikonduktor untuk semikonduktor boleh mengawal pengagihan medan elektrik di dalam ruang etsa dan mencapai sarung plasma yang lebih seragam di sekeliling wafer semikonduktor, membolehkan plasma mencecah permukaan wafer secara menegak dan seragam. Dengan cara ini, kesan tepi goresan boleh dikurangkan dengan banyak dan ketepatan goresan boleh dipertingkatkan dengan ketara.

2. Lindungi chuck elektrostatik

Tanpa perlindungan cincin fokus dalam proses etsa, chuck elektrostatik akan terdedah kepada pengeboman dan hakisan plasma bertenaga tinggi. Chuck elektrostatik diperbuat daripada bahan kos tinggi dengan perbelanjaan penggantian yang sangat tinggi. Menggunakan cincin fokus boleh mengurangkan kakisan plasma pada chuck elektrostatik dengan berkesan dan meminimumkan kos penyelenggaraan dan penggantian chuck elektrostatik.