Penerangan Produk

Semicorex CVD SIC Shower Heads digunakan untuk Etching CCP. Etchers CCP menggunakan dua elektrod selari (satu yang berasaskan, yang lain disambungkan ke sumber kuasa RF) untuk menjana plasma. Plasma dikekalkan di antara kedua -dua elektrod oleh medan elektrik di antara mereka. Elektrod dan plat pengedaran gas diintegrasikan ke dalam satu komponen. Gas etsa disembur secara seragam ke permukaan wafer melalui lubang kecil di kepala pancuran CVD sic. Secara semula jadi, voltan RF digunakan pada pancuran mandian (juga elektrod atas). Voltan ini menjana medan elektrik di antara elektrod atas dan bawah, menarik gas untuk membentuk plasma. Reka bentuk ini menghasilkan struktur yang lebih mudah dan lebih padat sambil memastikan pengagihan seragam molekul gas dan medan elektrik seragam, membolehkan etsa seragam wafer besar.

Kepala pancuran CVD SIC juga boleh digunakan dalam etsa ICP. Etker ICP menggunakan gegelung induksi (biasanya solenoid) untuk menghasilkan medan magnet RF, yang mendorong arus dan plasma. Kepala pancuran CVD SIC, sebagai komponen yang berasingan, bertanggungjawab untuk menyebarkan gas etsa ke rantau plasma.

Semicorex CVD SIC Shower Heads digunakan untuk Etching CCP. Etchers CCP menggunakan dua elektrod selari (satu yang berasaskan, yang lain disambungkan ke sumber kuasa RF) untuk menjana plasma. Plasma dikekalkan di antara kedua -dua elektrod oleh medan elektrik di antara mereka. Elektrod dan plat pengedaran gas diintegrasikan ke dalam satu komponen. Gas etsa disembur secara seragam ke permukaan wafer melalui lubang kecil di kepala pancuran CVD sic. Secara semula jadi, voltan RF digunakan pada pancuran mandian (juga elektrod atas). Voltan ini menjana medan elektrik di antara elektrod atas dan bawah, menarik gas untuk membentuk plasma. Reka bentuk ini menghasilkan struktur yang lebih mudah dan lebih padat sambil memastikan pengagihan seragam molekul gas dan medan elektrik seragam, membolehkan etsa seragam wafer besar.

Kesucian bahan dan kawalan dimensi yang luar biasa yang memenuhi keperluan yang ketat pembuatan semikonduktor masa depan.

Kesucian yang tinggi adalah salah satu kelebihan yang menentukan kepala pancuran CVD sic. Pemprosesan semikonduktor, bahkan pencemaran yang sedikit dapat memberi kesan yang signifikan dengan kualiti wafer dan hasil peranti. Kepala mandi ini menggunakan gred ultra-bersihCVD Silicon CarbideUntuk meminimumkan pencemaran zarah dan logam. Pancuran mandi ini memastikan persekitaran yang bersih dan sesuai untuk menuntut proses seperti pemendapan wap kimia, etsa plasma, dan pertumbuhan epitaxial.

Di samping itu, pemesinan ketepatan menunjukkan kawalan dimensi yang sangat baik dan kualiti permukaan. Lubang pengedaran gas di kepala pancuran CVD SIC dibuat dengan toleransi yang ketat yang membantu memastikan aliran gas seragam dan terkawal merentasi permukaan wafer. Aliran gas yang tepat meningkatkan keseragaman filem dan kebolehulangan dan dapat meningkatkan hasil dan produktiviti. Pemesinan juga membantu mengurangkan kekasaran permukaan, yang dapat mengurangkan pembentukan zarah dan juga meningkatkan seumur hidup komponen.

Cvd sicmempunyai sifat bahan yang wujud yang menyumbang kepada prestasi dan ketahanan kepala pancuran, termasuk kekonduksian terma yang tinggi, rintangan plasma, dan kekuatan mekanikal. Kepala pancuran CVD SIC dapat bertahan dalam persekitaran proses yang melampau - suhu tinggi, gas menghakis, dan lain -lain - sambil mengekalkan prestasi di seluruh kitaran perkhidmatan yang dilanjutkan.

Teg Panas: CVD SIC Shower Heads, China, Pengilang, Pembekal, Kilang, Disesuaikan, Pukal, Lanjutan, Tahan Lama

Tag Produk

Kategori Berkaitan