Chuck Elektrostatik E-Chuck

Semicorex Electrostatic Chuck E-Chuck beroperasi berdasarkan prinsip tarikan elektrostatik, menawarkan pengekalan wafer yang boleh dipercayai dan tepat tanpa memerlukan pengapit mekanikal atau sedutan vakum, terutamanya digunakan dalam etsa, impl- ion.

pemprosesan semikonduktor antation, PVD, CVD, dsb. Dimensinya yang boleh disesuaikan menjadikannya boleh disesuaikan dengan pelbagai aplikasi, menjadikannya pilihan ideal untuk syarikat yang mencari fleksibiliti dan kecekapan dalam proses fabrikasi semikonduktor.

Teknologi asas di sebalik E-Chuck Elektrostatik Elektrostatik jenis J-R ialah keupayaannya untuk menjana daya elektrostatik antara wafer dan permukaan chuck. Daya ini dicipta dengan menggunakan voltan tinggi pada elektrod yang tertanam dalam chuck, yang mendorong cas pada kedua-dua wafer dan chuck, dengan itu mewujudkan ikatan elektrostatik yang kuat. Mekanisme ini bukan sahaja memegang wafer di tempatnya dengan selamat tetapi juga meminimumkan sentuhan fizikal antara wafer dan chuck, mengurangkan potensi pencemaran atau tekanan mekanikal yang boleh merosakkan bahan semikonduktor sensitif.

Semicorex boleh menghasilkan produk tersuai, daripada 200 mm hingga 300 mm atau lebih besar, bergantung kepada keperluan daripada pelanggan. Dengan menawarkan pilihan yang boleh disesuaikan ini, ESC jenis J-R memberikan fleksibiliti maksimum untuk pelbagai proses semikonduktor, termasuk etsa plasma, pemendapan wap kimia (CVD), pemendapan wap fizikal (PVD) dan implantasi ion.

Dari segi bahan, Elektrostatik Chuck E-Chuck diperbuat daripada bahan seramik berkualiti tinggi, seperti alumina (Al2O3) atau aluminium nitrida (AlN), yang terkenal dengan sifat dielektrik yang sangat baik, kekuatan mekanikal dan kestabilan haba. Seramik ini memberikan chuck dengan ketahanan yang diperlukan untuk menahan keadaan keras pembuatan semikonduktor, seperti suhu tinggi, persekitaran yang menghakis dan pendedahan plasma. Selain itu, permukaan seramik digilap ke tahap kelicinan yang tinggi untuk memastikan sentuhan seragam dengan wafer, meningkatkan daya elektrostatik dan meningkatkan prestasi keseluruhan proses.

Chuck Elektrostatik E-Chuck juga direka bentuk untuk menangani cabaran terma yang biasa dihadapi dalam fabrikasi semikonduktor. Pengurusan suhu adalah penting semasa proses seperti etsa atau pemendapan, di mana suhu wafer boleh berubah-ubah dengan cepat. Bahan seramik yang digunakan dalam chuck memberikan kekonduksian terma yang sangat baik, membantu menghilangkan haba dengan cekap dan mengekalkan suhu wafer yang stabil.

Chuck Elektrostatik E-Chuck direka dengan penekanan pada meminimumkan pencemaran zarah, yang penting dalam pembuatan semikonduktor di mana zarah mikroskopik pun boleh menyebabkan kecacatan pada produk akhir. Permukaan seramik licin chuck mengurangkan kemungkinan lekatan zarah, dan pengurangan sentuhan fizikal antara wafer dan chuck, terima kasih kepada mekanisme pegangan elektrostatik, mengurangkan lagi risiko pencemaran. Sesetengah model ESC jenis J-R juga menggabungkan salutan permukaan termaju atau rawatan yang menangkis zarah dan menahan kakisan, meningkatkan jangka hayat dan kebolehpercayaan chuck dalam persekitaran bilik bersih.

Ringkasnya, E-Chuck Elektrostatik Elektrostatik jenis J-R ialah penyelesaian pemegang wafer yang serba boleh dan boleh dipercayai yang menawarkan prestasi luar biasa merentasi pelbagai proses pembuatan semikonduktor. Reka bentuknya yang boleh disesuaikan, teknologi pegangan elektrostatik termaju dan sifat bahan yang teguh menjadikannya pilihan ideal untuk syarikat yang ingin mengoptimumkan pengendalian wafer sambil mengekalkan standard kebersihan dan ketepatan tertinggi. Sama ada digunakan dalam etsa plasma, pemendapan atau implantasi ion, ESC jenis J-R memberikan fleksibiliti, ketahanan dan kecekapan yang diperlukan untuk memenuhi keperluan industri semikonduktor masa kini yang menuntut. Dengan keupayaannya untuk beroperasi dalam kedua-dua mod Coulomb dan Johnsen-Rahbek, mengendalikan suhu tinggi dan menentang pencemaran zarah, ESC jenis J-R berdiri sebagai komponen kritikal dalam mengejar hasil yang lebih tinggi dan hasil proses yang lebih baik.