Anda boleh yakin untuk membeli Pembawa Etching ICP dari kilang kami dan kami akan menawarkan perkhidmatan selepas jualan yang terbaik dan penghantaran tepat pada masanya. Susceptor wafer semicorex diperbuat daripada grafit bersalut silikon karbida menggunakan proses pemendapan wap kimia (CVD). Bahan ini mempunyai sifat unik, termasuk suhu tinggi dan rintangan kimia, rintangan haus yang sangat baik, kekonduksian haba yang tinggi, dan kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Ciri-ciri ini menjadikannya bahan yang menarik untuk pelbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk sistem Goresan Plasma (ICP) Berganding Induktif.
Kami menyediakan servis tersuai, membantu anda berinovasi dengan komponen yang tahan lebih lama, mengurangkan masa kitaran dan meningkatkan hasil.
Susceptor bersalut silikon karbida Semicorex untuk Inductively-Coupled Plasma (ICP) direka khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar PertanyaanPemegang wafer etsa ICP Semicorex ialah penyelesaian yang sempurna untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar PertanyaanPlat Pembawa Etching ICP Semicorex ialah penyelesaian yang sempurna untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami menyediakan rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman haba, dan corak aliran gas lamina. Dengan permukaan yang bersih dan licin, pembawa kami sesuai untuk mengendalikan wafer asli.
Baca LagiHantar PertanyaanPemegang Wafer Semicorex untuk Proses Etsa ICP ialah pilihan yang tepat untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami mempunyai rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman terma, dan corak aliran gas lamina yang optimum untuk hasil yang konsisten dan boleh dipercayai.
Baca LagiHantar PertanyaanGrafit Bersalut Karbon Silikon ICP Semicorex ialah pilihan ideal untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami mempunyai rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman terma, dan corak aliran gas lamina yang optimum.
Baca LagiHantar PertanyaanPilih Sistem Epitaksi Plasma ICP Semicorex untuk Proses PSS untuk proses epitaksi dan MOCVD berkualiti tinggi. Produk kami direka bentuk khusus untuk proses ini, menawarkan rintangan haba dan kakisan yang unggul. Dengan permukaan yang bersih dan licin, pembawa kami sesuai untuk mengendalikan wafer asli.
Baca LagiHantar Pertanyaan