> Berita

Berita

Mengapa Menggunakan Pembersihan Ultrasonik dalam Pembuatan Semikonduktor

Apabila membersihkan wafer, pembersihan ultrasonik dan pembersihan megasonik biasanya digunakan untuk mengeluarkan zarah dari permukaan wafer.

Baca Lagi

Bagaimanakah seramik silikon karbida digunakan dan apakah masa depannya dalam rintangan haus dan suhu tinggi?

Seramik silikon karbida (SiC), yang terkenal dengan kekuatan tinggi, kekerasan, rintangan haus, rintangan kakisan, dan kestabilan suhu tinggi, telah menunjukkan potensi dan nilai yang sangat besar merentasi pelbagai sektor perindustrian sejak ia diperkenalkan.

Baca Lagi

Kajian tentang Taburan Kerintangan Elektrik dalam Hablur 4H-SiC Jenis-n

4H-SiC, sebagai bahan semikonduktor generasi ketiga, terkenal dengan jurang jalur lebar, kekonduksian haba yang tinggi, dan kestabilan kimia dan haba yang sangat baik, menjadikannya sangat berharga dalam aplikasi berkuasa tinggi dan frekuensi tinggi.

Baca Lagi

Apa itu Sistem Relau Pertumbuhan Kristal

Relau pertumbuhan kristal tunggal terdiri daripada enam sistem utama yang berfungsi secara harmoni untuk memastikan pertumbuhan kristal yang cekap dan berkualiti tinggi.

Baca Lagi

Infineon Memperkenalkan Wafer GaN Kuasa 300mm Pertama di Dunia

Baru-baru ini, Infineon Technologies mengumumkan kejayaan pembangunan teknologi wafer Gallium Nitride (GaN) kuasa 300mm pertama di dunia.

Baca Lagi

Pembuatan Silikon Monocrystalline

Tiga kaedah utama yang digunakan dalam pembuatan silikon monohabluran ialah kaedah Czochralski (CZ), kaedah Kyropoulos, dan kaedah Zon Terapung (FZ).

Baca Lagi

<...10 11 12 13 14...37 >