- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Berita Industri
Pengenalan kepada Semikonduktor Generasi Ketiga: GaN dan Teknologi Epitaxial Berkaitan
Bahan GaN menjadi terkenal berikutan penganugerahan Hadiah Nobel dalam Fizik 2014 untuk LED biru. Pada mulanya memasuki mata umum melalui aplikasi pengecasan pantas dalam elektronik pengguna, penguat kuasa berasaskan GaN dan peranti RF juga secara senyap-senyap muncul sebagai komponen kritikal dalam......
Baca Lagi
Substrat vs. Epitaksi: Peranan Utama dalam Pembuatan Semikonduktor
Dalam bidang teknologi semikonduktor dan mikroelektronik, konsep substrat dan epitaksi sangat penting. Mereka memainkan peranan penting dalam proses pembuatan peranti semikonduktor. Artikel ini akan menyelidiki perbezaan antara substrat semikonduktor dan epitaksi, meliputi definisi, fungsi, struktur......
Baca Lagi
Parameter Utama Substrat Silikon Karbida (SiC).
Proses pengeluaran Silicon Carbide (SiC) merangkumi penyediaan substrat dan epitaksi dari bahagian bahan, diikuti dengan reka bentuk dan pembuatan cip, pembungkusan peranti, dan akhirnya, pengedaran ke pasaran aplikasi hiliran. Di antara peringkat ini, pemprosesan bahan substrat adalah aspek yang pa......
Baca Lagi
Aplikasi Silicon Carbide
Silikon karbida mempunyai sejumlah besar aplikasi dalam industri baru muncul dan industri tradisional. Pada masa ini, pasaran semikonduktor global telah melebihi 100 bilion yuan. Dijangkakan menjelang 2025, jualan global bahan pembuatan semikonduktor akan mencapai 39.5 bilion dolar AS, yang mana pas......
Baca Lagi
Pengenalan kepada Proses Implantasi dan Penyepuhlindapan Ion Silikon Karbida
Dalam fabrikasi peranti kuasa silikon tradisional, resapan suhu tinggi dan implantasi ion berdiri sebagai kaedah utama untuk kawalan dopan, masing-masing dengan kelebihan dan kekurangannya. Lazimnya, resapan suhu tinggi dicirikan oleh kesederhanaan, keberkesanan kos, profil pengedaran dopan isotropi......
Baca Lagi
