- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Berita
Substrat dan Epitaksi
Dalam proses penyediaan wafer, terdapat dua pautan teras: satu ialah penyediaan substrat, dan satu lagi ialah pelaksanaan proses epitaxial. Substrat, wafer yang dibuat dengan teliti daripada bahan kristal tunggal semikonduktor, boleh terus dimasukkan ke dalam proses pembuatan wafer sebagai asas untu......
Baca Lagi
Memahami Pemendapan Wap Kimia (CVD): Gambaran Keseluruhan Komprehensif
Pemendapan Wap Kimia (CVD) ialah teknik pemendapan filem nipis serba boleh yang digunakan secara meluas dalam industri semikonduktor untuk fabrikasi filem nipis konform yang berkualiti tinggi pada pelbagai substrat. Proses ini melibatkan tindak balas kimia prekursor gas ke atas permukaan substrat ya......
Baca Lagi
Wafer silikon
Bahan silikon ialah bahan pepejal dengan sifat elektrik semikonduktor tertentu dan kestabilan fizikal, dan menyediakan sokongan substrat untuk proses pembuatan litar bersepadu seterusnya. Ia adalah bahan utama untuk litar bersepadu berasaskan silikon. Lebih daripada 95% peranti semikonduktor dan leb......
Baca Lagi
Bot SiC lwn. Bot Kuarza: Penggunaan Semasa dan Trend Masa Depan dalam Pembuatan Semikonduktor
Artikel ini menyelidiki penggunaan dan trajektori masa depan bot silikon karbida (SiC) berhubung dengan bot kuarza dalam industri semikonduktor, khususnya memfokuskan pada aplikasinya dalam pembuatan sel suria.
Baca Lagi
Wafer Epitaxial Gallium Nitride: Pengenalan kepada Proses Fabrikasi
Pertumbuhan wafer epitaxial Gallium Nitride (GaN) adalah proses yang kompleks, selalunya menggunakan kaedah dua langkah. Kaedah ini melibatkan beberapa peringkat kritikal, termasuk pembakar suhu tinggi, pertumbuhan lapisan penimbal, penghabluran semula dan penyepuhlindapan. Dengan mengawal suhu deng......
Baca Lagi
