> Berita

Berita

Proses Pengoksidaan

Peringkat paling asas dari semua proses ialah proses pengoksidaan. Proses pengoksidaan adalah untuk meletakkan wafer silikon dalam suasana oksidan seperti oksigen atau wap air untuk rawatan haba suhu tinggi (800~1200 ℃), dan tindak balas kimia berlaku pada permukaan wafer silikon untuk membentuk fil......

Baca Lagi

Mengapa Epitaksi Gllium Nitride (GaN) Tidak Tumbuh pada substrat GaN?

Pertumbuhan epitaksi GaN pada substrat GaN memberikan cabaran yang unik, walaupun sifat unggul bahan jika dibandingkan dengan silikon. GaN epitaxy menawarkan kelebihan ketara dari segi lebar jurang jalur, kekonduksian terma dan medan elektrik pecahan berbanding bahan berasaskan silikon. Ini menjadik......

Baca Lagi

Bagaimana untuk melakukan Proses CMP

Dalam proses pembuatan wafer silikon, selepas rod kristal dipotong menjadi wafer silikon, ia perlu digilap dan dibersihkan untuk mendapatkan wafer silikon kristal tunggal seperti cermin.

Baca Lagi

Apakah Proses CMP

Dalam pembuatan semikonduktor, kerataan tahap atom biasanya digunakan untuk menggambarkan kerataan global wafer, dengan unit nanometer (nm).

Baca Lagi

Apakah Kebaikan dan Keburukan Goresan Kering dan Goresan Basah?

Etsa adalah proses penting dalam pembuatan semikonduktor. Proses ini boleh dikategorikan kepada dua jenis: goresan kering dan goresan basah. Setiap teknik mempunyai kelebihan dan batasannya sendiri, menjadikannya penting untuk memahami perbezaan antara mereka. Jadi, bagaimana anda memilih kaedah ets......

Baca Lagi

Bahan Teras untuk Pertumbuhan SiC: Salutan Tantalum Carbide

Semikonduktor generasi ketiga semasa adalah berasaskan Silicon Carbide, dengan substrat menyumbang 47% daripada kos peranti, dan epitaksi menyumbang 23%, berjumlah kira-kira 70% dan membentuk bahagian paling penting dalam industri pembuatan peranti SiC.

Baca Lagi

<...19 20 21 22 23...40 >