Pembawa SiC Coated Semicorex untuk Sistem Etsa Plasma ICP ialah penyelesaian yang boleh dipercayai dan kos efektif untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Pembawa kami menampilkan salutan kristal SiC halus yang memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman haba dan rintangan kimia yang tahan lama.
Baca LagiHantar PertanyaanSusceptor bersalut silikon karbida Semicorex untuk Inductively-Coupled Plasma (ICP) direka khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar PertanyaanPemegang wafer etsa ICP Semicorex ialah penyelesaian yang sempurna untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar PertanyaanPlat Pembawa Etching ICP Semicorex ialah penyelesaian yang sempurna untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami menyediakan rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman haba, dan corak aliran gas lamina. Dengan permukaan yang bersih dan licin, pembawa kami sesuai untuk mengendalikan wafer asli.
Baca LagiHantar PertanyaanPemegang Wafer Semicorex untuk Proses Etsa ICP ialah pilihan yang tepat untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami mempunyai rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman terma, dan corak aliran gas lamina yang optimum untuk hasil yang konsisten dan boleh dipercayai.
Baca LagiHantar PertanyaanGrafit Bersalut Karbon Silikon ICP Semicorex ialah pilihan ideal untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami mempunyai rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman terma, dan corak aliran gas lamina yang optimum.
Baca LagiHantar Pertanyaan