Cakera Penerima

Cakera Suseptor Semicorex ialah alat yang sangat diperlukan dalam Pemendapan Wap Kimia Logam-Organik (MOCVD), direka khusus untuk menyokong dan memanaskan wafer semikonduktor semasa proses kritikal pemendapan lapisan epitaxial. Cakera Susceptor memainkan peranan penting dalam pembuatan peranti semikonduktor, di mana pertumbuhan lapisan yang tepat adalah yang terpenting. Komitmen Semicorex terhadap kualiti peneraju pasaran, bersekutu dengan pertimbangan fiskal yang kompetitif, mengukuhkan semangat kami untuk mewujudkan perkongsian dalam memenuhi keperluan pengangkutan wafer semikonduktor anda.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Dihasilkan daripada grafit ketulenan tinggi dan disalut dengan lapisan silikon karbida (SiC) menggunakan teknik MOCVD, Semicorex Susceptor Disc menggabungkan sifat terma yang luar biasa dengan kestabilan kimia yang luar biasa. Salutan silikon karbida memastikan ketahanan yang sangat baik terhadap suhu tinggi dan keadaan menghakis, penting untuk mengekalkan integriti Cakera Susceptor dalam persekitaran yang mencabar.

Selain itu, salutan SiC pada Cakera Susceptor meningkatkan kekonduksian termanya, yang membolehkan pengedaran haba yang pantas dan sekata kritikal untuk pertumbuhan epitaxial yang konsisten. Ia cekap menyerap dan memancarkan haba, memberikan suhu yang stabil dan seragam yang penting untuk pemendapan filem nipis. Keseragaman ini adalah penting untuk mencapai lapisan epitaxial berkualiti tinggi, yang merupakan asas kepada kefungsian dan prestasi peranti semikonduktor termaju.

Reka bentuk Cakera Susceptor juga menangani cabaran pengembangan haba. Pekali pengembangan terma yang minimum memastikan ikatan yang kuat dengan lapisan epitaxial, mengurangkan risiko keretakan akibat kitaran haba. Ciri ini, ditambah dengan takat lebur Cakera Susceptor yang tinggi dan rintangan pengoksidaan yang sangat baik, membolehkan operasi yang boleh dipercayai dalam keadaan yang melampau.

Dengan sifat termaju ini, Cakera Susceptor bukan sahaja memenuhi tetapi melebihi keperluan ketat aplikasi MOCVD moden, menyediakan penyelesaian yang boleh dipercayai dan berprestasi tinggi yang meningkatkan kecekapan keseluruhan dan output proses pertumbuhan epitaxial.