- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Produk
Semicorex ialah pengilang dan pembekal profesional di China. Kilang kami menyediakan susceptor tong, susceptor mocvd, bot wafer, dan lain-lain. Reka bentuk yang melampau, bahan mentah berkualiti, prestasi tinggi dan harga yang kompetitif adalah apa yang setiap pelanggan mahu, dan itu juga yang kami boleh tawarkan kepada anda. Kami mengambil kualiti tinggi, harga berpatutan dan perkhidmatan yang sempurna.
- View as
Komponen ICP Bersalut SiC
Komponen ICP Bersalut SiC Semicorex direka khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan salutan kristal SiC yang halus, pembawa kami memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman terma, dan rintangan kimia yang tahan lama.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Salutan SiC Suhu Tinggi untuk Ruang Gores Plasma
Apabila ia berkaitan dengan proses pengendalian wafer seperti epitaksi dan MOCVD, Salutan SiC Suhu Tinggi Semicorex untuk Ruang Etch Plasma adalah pilihan utama. Pembawa kami memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman terma, dan rintangan kimia tahan lama berkat salutan kristal SiC kami yang halus.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Dulang Etching Plasma ICP
Dulang Etching Plasma ICP Semicorex direka bentuk khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami menyediakan profil terma sekata, corak aliran gas lamina dan menghalang pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Sistem Etching Plasma ICP
Pembawa SiC Coated Semicorex untuk Sistem Etsa Plasma ICP ialah penyelesaian yang boleh dipercayai dan kos efektif untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Pembawa kami menampilkan salutan kristal SiC halus yang memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman haba dan rintangan kimia yang tahan lama.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Plasma Berganding Induktif (ICP)
Susceptor bersalut silikon karbida Semicorex untuk Inductively-Coupled Plasma (ICP) direka khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Pemegang Wafer Etching ICP
Pemegang wafer etsa ICP Semicorex ialah penyelesaian yang sempurna untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar Pertanyaan
