Produk

View as  
 
Silicon Carbide ICP Etching Plate

Silicon Carbide ICP Etching Plate

Silicon Carbide ICP Etching Plate adalah pemegang wafer yang sangat diperlukan yang dihasilkan oleh seramik silikon karbida silikon sintered tinggi. Direka khas oleh Semicorex, ia berfungsi sebagai pemboleh penting untuk sistem etsa dan pemendapan plasma dan pemendapan induktif dalam industri semikonduktor canggih.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Etching Wafer Carrier

Etching Wafer Carrier

Semikorex Etching Wafer Carrier dengan salutan CVD SIC adalah penyelesaian yang maju dan berprestasi tinggi yang disesuaikan untuk menuntut aplikasi etsa semikonduktor. Kestabilan haba yang unggul, rintangan kimia, dan ketahanan mekanikal menjadikannya komponen penting dalam fabrikasi wafer moden, memastikan kecekapan, kebolehpercayaan, dan keberkesanan kos yang tinggi untuk pengeluar semikonduktor di seluruh dunia.*
Baca LagiHantar Pertanyaan
Plat Etching SiC ICP

Plat Etching SiC ICP

Semicorex SiC ICP Etching Plate ialah komponen termaju dan amat diperlukan dalam industri semikonduktor, direka untuk meningkatkan ketepatan dan kecekapan proses goresan. Semicorex komited untuk menyediakan produk berkualiti pada harga yang kompetitif, kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China*.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Plat Etching ICP

Plat Etching ICP

Plat Etching ICP Semicorex ialah komponen berprestasi tinggi termaju yang direka khusus untuk aplikasi semikonduktor, dihasilkan daripada bahan Silicon Carbide (SiC). Semicorex komited untuk menyediakan produk berkualiti pada harga yang kompetitif, kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China*.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Dulang Etching Plasma ICP

Dulang Etching Plasma ICP

Dulang Etching Plasma ICP Semicorex direka bentuk khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami menyediakan profil terma sekata, corak aliran gas lamina dan menghalang pencemaran atau resapan bendasing.
Baca LagiHantar Pertanyaan
Sistem Etching Plasma ICP

Sistem Etching Plasma ICP

Pembawa SiC Coated Semicorex untuk Sistem Etsa Plasma ICP ialah penyelesaian yang boleh dipercayai dan kos efektif untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Pembawa kami menampilkan salutan kristal SiC halus yang memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman haba dan rintangan kimia yang tahan lama.
Baca LagiHantar Pertanyaan
X
Kami menggunakan kuki untuk menawarkan anda pengalaman menyemak imbas yang lebih baik, menganalisis trafik tapak dan memperibadikan kandungan. Dengan menggunakan tapak ini, anda bersetuju dengan penggunaan kuki kami. Dasar Privasi
Tolak Terima