Plat Pembawa RTP Bersalut Semicorex SiC untuk Pertumbuhan Epitaxial ialah penyelesaian yang sempurna untuk aplikasi pemprosesan wafer semikonduktor. Dengan susceptor grafit karbon berkualiti tinggi dan crucible kuarza yang diproses oleh MOCVD pada permukaan grafit, seramik, dsb., produk ini sesuai untuk pengendalian wafer dan pemprosesan pertumbuhan epitaxial. Pembawa bersalut SiC memastikan kekonduksian terma yang tinggi dan sifat pengedaran haba yang sangat baik, menjadikannya pilihan yang boleh dipercayai untuk RTA, RTP atau pembersihan kimia yang keras.
Baca LagiHantar PertanyaanPembawa RTP Semicorex untuk Pertumbuhan Epitaxial MOCVD sesuai untuk aplikasi pemprosesan wafer semikonduktor, termasuk pertumbuhan epitaxial dan pemprosesan pengendalian wafer. Suseptor grafit karbon dan cawan kuarza diproses oleh MOCVD pada permukaan grafit, seramik, dll. Produk kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.
Baca LagiHantar Pertanyaan