Di Semicorex, kami telah mereka bentuk Dulang Pembawa Etsa PSS untuk LED khusus untuk persekitaran yang keras yang diperlukan untuk pertumbuhan epitaxial dan proses pengendalian wafer. Pembawa grafit ultra tulen kami sesuai untuk fasa pemendapan filem nipis seperti MOCVD, suseptor epitaksi, platform lempeng atau satelit dan pemprosesan pengendalian wafer seperti etsa. Pembawa bersalut SiC mempunyai rintangan haba dan kakisan yang tinggi, sifat pengagihan haba yang sangat baik, dan kekonduksian terma yang tinggi. Dulang Pembawa Etching PSS kami untuk LED adalah kos efektif dan menawarkan kelebihan harga yang baik. Kami memenuhi banyak pasaran Eropah dan Amerika dan berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.
Dulang Pembawa Etsa PSS Semicorex untuk LED direka bentuk untuk persekitaran yang keras yang diperlukan untuk pertumbuhan epitaxial dan proses pengendalian wafer. Pembawa grafit ultra tulen kami direka bentuk untuk menyokong wafer semasa fasa pemendapan filem nipis seperti MOCVD dan susceptor epitaksi, lempeng atau platform satelit. Pembawa bersalut SiC mempunyai rintangan haba dan kakisan yang tinggi, sifat pengagihan haba yang sangat baik, dan kekonduksian terma yang tinggi. Produk kami adalah kos efektif dan mempunyai kelebihan harga yang baik. Kami memenuhi banyak pasaran Eropah dan Amerika dan berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.
Hubungi kami hari ini untuk mengetahui lebih lanjut tentang Dulang Pembawa Etsa PSS kami untuk LED.
Parameter Dulang Pembawa Etsa PSS untuk LED
Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC |
||
Sifat SiC-CVD |
||
Struktur Kristal |
fasa FCC β |
|
Ketumpatan |
g/cm ³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Saiz Bijirin |
μm |
2~10 |
Ketulenan Kimia |
% |
99.99995 |
Kapasiti Haba |
J kg-1 K-1 |
640 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 mata) |
415 |
Modulus Muda |
Gpa (4pt selekoh, 1300℃) |
430 |
Pengembangan Terma (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Kekonduksian terma |
(W/mK) |
300 |
Ciri-ciri Dulang Pembawa Etsa PSS untuk LED
- Elakkan mengelupas dan pastikan salutan pada semua permukaan
Rintangan pengoksidaan suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi sehingga 1600°C
Ketulenan tinggi: dibuat oleh pemendapan wap kimia CVD di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
Rintangan kakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat dan zarah halus.
Rintangan kakisan: asid, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai corak aliran gas lamina terbaik
- Menjamin kesekataan profil terma
- Elakkan sebarang pencemaran atau resapan bendasing