Rumah > Produk > Kuarza > Tangki Kuarza > Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah
Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah
  • Tangki Kuarza untuk Pemprosesan BasahTangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah

Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah

Tangki Kuarza Semicorex untuk Pemprosesan Basah, juga dikenali sebagai mandian kuarza, amat kritikal dalam proses basah yang digunakan untuk fabrikasi wafer.**

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah, diperbuat daripada kuarza gred semikonduktor, menawarkan ketahanan dan tidak kereaktifan yang luar biasa kepada pelbagai bahan kimia termasuk asid sulfurik (H2SO4), hidrogen peroksida (H2O2), dan larutan bersih standard (SC1).


Salah satu aplikasi utama Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah dalam fabrikasi wafer ialah pembersihan wafer. Semasa pelbagai langkah fabrikasi, wafer mungkin bertopeng untuk menggores bahagian tertentu atau untuk mengehadkan resapan ke kawasan yang ditetapkan. Setelah langkah proses tertentu selesai, bahan pelekat mesti dibersihkan dengan teliti untuk menyediakan wafer untuk langkah seterusnya. Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah memainkan peranan penting dalam proses pembersihan ini, memastikan wafer dibersihkan dengan berkesan tanpa meninggalkan sebarang sisa atau zarah yang boleh mencemari langkah pemprosesan seterusnya.


Keupayaan Kuarza Tangki untuk Pemprosesan Basah untuk menentang bahan kimia yang agresif adalah penting dalam aplikasi pemprosesan basah. Tangki ini direka bentuk untuk menahan bahan kimia keras yang digunakan dalam proses etsa dan pembersihan tanpa bertindak balas dengannya. Ketidakreaktifan ini memastikan bahawa bahan kimia kekal berkesan dan tiada tindak balas kimia yang tidak diingini berlaku yang boleh menjejaskan integriti wafer.


Dalam proses pembersihan wafer, adalah penting untuk meminimumkan pencemaran wafer dengan zarah. Tangki Kuarza Semicorex untuk Pemprosesan Basah direka bentuk untuk mengurangkan risiko pencemaran, memastikan wafer dibersihkan dengan teliti dan cekap. Tangki kuarza kami boleh dibekalkan dalam model yang dipanaskan dan beredar semula, yang membolehkan kawalan suhu yang tepat dan peredaran berterusan penyelesaian pembersihan.


Satu lagi ciri kritikal Tangki Kuarza Semicorex untuk Pemprosesan Basah ialah rintangan haba yang tinggi. Tangki ini boleh beroperasi pada suhu sehingga 190°C, sesuai untuk proses yang melibatkan pemanasan larutan pembersihan atau etsa. Rintangan haba yang tinggi memastikan tangki mengekalkan integriti dan prestasi strukturnya walaupun di bawah suhu tinggi. Ini amat penting dalam proses di mana kawalan suhu adalah penting untuk mencapai hasil yang diinginkan.


Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah juga mempamerkan pengembangan haba yang rendah dan rintangan yang tinggi terhadap kejutan haba. Pengembangan haba yang rendah meminimumkan risiko keretakan atau ubah bentuk akibat turun naik suhu, memastikan jangka hayat dan kebolehpercayaan tangki. Rintangan tinggi terhadap kejutan haba membolehkan tangki kuarza menahan perubahan suhu yang cepat tanpa menjejaskan integriti strukturnya. Sifat terma ini penting untuk mengekalkan ketepatan dan kebolehpercayaan langkah pemprosesan basah dalam fabrikasi wafer.


Ketelusan yang tinggi ialah satu lagi kelebihan Tangki Kuarza Semicorex untuk Pemprosesan Basah. Ketelusan bahan kuarza membolehkan pemeriksaan visual wafer dan penyelesaian pembersihan atau goresan semasa pemprosesan. Keterlihatan ini meningkatkan kawalan dan pemantauan proses, memastikan sebarang isu dapat dikesan dan ditangani dengan segera. Keupayaan untuk memantau proses secara visual adalah penting terutamanya untuk memastikan kualiti dan konsistensi langkah pembersihan dan goresan wafer.


Di Semicorex, kami menggunakan teknologi pemesinan termaju untuk menghasilkan Tangki Kuarza berkualiti tinggi untuk Pemprosesan Basah. Keupayaan pembuatan kami termasuk bilah berlian dan pemotongan laser mengikut saiz, memastikan dimensi yang tepat dan kemasan berkualiti tinggi. Kami juga menggunakan permukaan yang sangat digilap untuk meminimumkan risiko penjanaan zarah dan pencemaran. Pengimpal dan juru mesin kuarza kami yang berpengalaman mencipta tangki kuarza ketulenan tinggi dengan salur masuk dan pemegang probe dikimpal berkekuatan tinggi, disesuaikan untuk memenuhi keperluan khusus pelanggan kami.


Untuk meningkatkan prestasi dan ketahanan Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah, kami menyepuhnya untuk melegakan tekanan terma. Penyepuhlindapan ialah proses rawatan haba yang mengurangkan tegasan dalaman dalam bahan kuarza, meningkatkan ketahanannya terhadap kejutan haba dan meningkatkan ketahanan keseluruhannya.



Saiz dan konfigurasi tersuai adalah penting untuk memenuhi keperluan pelbagai proses pembuatan semikonduktor. Di Semicorex, kami menawarkan pelbagai saiz dan konfigurasi tersuai untuk tangki kuarza kami, membolehkan kami menyediakan penyelesaian yang disesuaikan dengan keperluan khusus pelanggan kami. Sama ada menambah salur masuk kuarza dikimpal berkekuatan tinggi, pemegang probe atau ciri tersuai lain, kami bekerjasama rapat dengan pelanggan kami untuk menghantar tangki kuarza yang memenuhi spesifikasi tepat mereka.



Teg Panas: Tangki Kuarza untuk Pemprosesan Basah, China, Pengilang, Pembekal, Kilang, Disesuaikan, Pukal, Lanjutan, Tahan Lama
Kategori Berkaitan
Hantar Pertanyaan
Sila berasa bebas untuk memberikan pertanyaan anda dalam borang di bawah. Kami akan membalas anda dalam masa 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept