Semicorex memperkenalkan Susceptor Cakera SiCnya, yang direka untuk meningkatkan prestasi Epitaksi, Pemendapan Wap Kimia Logam-Organik (MOCVD) dan peralatan Pemprosesan Terma Pantas (RTP). Susceptor Cakera SiC yang direka dengan teliti menyediakan ciri-ciri yang menjamin prestasi unggul, ketahanan dan kecekapan dalam persekitaran suhu tinggi dan vakum.**
Dengan komitmen mendalam terhadap kualiti dan inovasi, Susceptor Cakera SiC ultra tulen Semicorex menetapkan standard baharu untuk prestasi dalam peralatan epitaksi, MOCVD dan RTP. Dengan menggabungkan rintangan kejutan haba yang luar biasa, kekonduksian terma yang unggul, rintangan kimia yang cemerlang dan ketulenan ultra tinggi, komponen kejuruteraan ini memperkasakan pengeluar semikonduktor untuk mencapai kecekapan, kebolehpercayaan dan kualiti produk yang tiada tandingan. Penyelesaian tersuai Semicorex seterusnya memastikan bahawa setiap aplikasi pemprosesan terma mendapat manfaat daripada komponen kejuruteraan yang dioptimumkan dan ketepatan yang direka untuk memenuhi permintaan uniknya.
Rintangan Kejutan Terma yang Luar Biasa:Susceptor Cakera SiC cemerlang dalam menahan turun naik suhu yang pantas, yang biasa berlaku dalam RTP dan proses suhu tinggi yang lain. Rintangan kejutan haba yang luar biasa ini memastikan integriti struktur dan jangka hayat, meminimumkan risiko kerosakan atau kegagalan akibat perubahan suhu secara mendadak dan meningkatkan kebolehpercayaan peralatan pemprosesan haba.
Kekonduksian Terma Unggul:Pemindahan haba yang cekap adalah penting dalam aplikasi pemprosesan haba. Kekonduksian terma yang sangat baik bagi Susceptor Cakera SiC memastikan pemanasan dan penyejukan yang cepat dan seragam, penting untuk kawalan suhu yang tepat dan keseragaman proses. Ini membawa kepada kecekapan proses yang lebih baik, masa kitaran yang dikurangkan dan wafer semikonduktor berkualiti tinggi.
Rintangan Kimia yang Luar Biasa:Susceptor Cakera SiC memberikan rintangan yang luar biasa kepada pelbagai bahan kimia menghakis dan reaktif yang digunakan dalam proses epitaksi, MOCVD dan RTP. Lengai kimia ini melindungi grafit asas daripada degradasi, menghalang pencemaran persekitaran proses dan memastikan prestasi yang konsisten sepanjang tempoh operasi yang panjang.
Ketulenan Ultra Tinggi: Susceptor Cakera SiC dihasilkan mengikut piawaian ketulenan ultra tinggi untuk kedua-dua grafit dan salutan SiC, mengelakkan potensi pencemaran dan memastikan pengeluaran peranti semikonduktor tanpa kecacatan. Komitmen terhadap kesucian ini bermakna hasil yang lebih tinggi dan prestasi peranti yang lebih baik.
Ketersediaan Bentuk Kompleks:Keupayaan pembuatan termaju di Semicorex membolehkan pengeluaran Susceptor Cakera SiC dalam bentuk kompleks yang disesuaikan dengan keperluan pelanggan tertentu. Fleksibiliti ini membolehkan reka bentuk penyelesaian tersuai yang memenuhi keperluan tepat pelbagai aplikasi pemprosesan haba, meningkatkan kecekapan proses dan keserasian peralatan.
Boleh digunakan dalam Atmosfera Mengoksida:Salutan SiC CVD yang teguh memberikan perlindungan yang sangat baik terhadap pengoksidaan, membolehkan Susceptor Cakera SiC berfungsi dengan pasti dalam persekitaran pengoksidaan. Ini memperluaskan kebolehgunaannya kepada rangkaian proses terma yang lebih luas, memastikan kepelbagaian dan kebolehsuaian.
Prestasi Kukuh, Boleh Diulang:Direka bentuk untuk persekitaran suhu tinggi dan vakum, Susceptor Cakera SiC menawarkan prestasi yang teguh dan boleh diulang. Ketahanan dan ketekalannya menjadikannya sesuai untuk aplikasi pemprosesan terma kritikal, mengurangkan masa henti, kos penyelenggaraan dan memastikan kebolehpercayaan operasi jangka panjang.
Semicorex pakar dalam menyesuaikan komponen bersalut SiC CVD untuk memenuhi pelbagai keperluan peralatan pemprosesan haba, termasuk:
Penyebar:Meningkatkan keseragaman pengedaran gas dan konsistensi proses.
Penebat:Menyediakan pengasingan dan perlindungan haba dalam persekitaran suhu tinggi.
Komponen Terma Tersuai Lain:Penyelesaian yang disesuaikan direka untuk memenuhi keperluan proses tertentu dan mengoptimumkan prestasi peralatan.